[发明专利]组合体、该组合体的利用及制造方法、光学设计辅助方法无效

专利信息
申请号: 201010132207.6 申请日: 2010-03-25
公开(公告)号: CN101844871A 公开(公告)日: 2010-09-29
发明(设计)人: 池上豊 申请(专利权)人: HOYA株式会社
主分类号: C03C14/00 分类号: C03C14/00;G01N21/41;G02B1/00;G02B27/00
代理公司: 北京三友知识产权代理有限公司 11127 代理人: 黄纶伟;吕俊刚
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 组合 利用 制造 方法 光学 设计 辅助
【说明书】:

技术领域

本发明涉及包括光学玻璃坯料和表示该光学玻璃坯料物性值的表示物在内的组合体、该组合体的利用方法及制造方法、以及使用该组合体的光学元件的光学设计辅助方法。

背景技术

为了获得具有所需光学性能的玻璃制光学元件,需要形状精度高并且折射率等光学特性高精度确定的光学玻璃。

玻璃的光学特性由其成分来确定,但即使成分完全相同,折射率也会根据光学元件制造时遇热经历的变化而稍稍变化,其变化量会较大程度地影响光学元件的性能。关注这种现象,在专利文献1、2中公开了用于还考虑遇热经历来获得期望的折射率的技术。

【先行技术文件】

【专利文献】

【专利文献1】日本特开2003-300738号公报

【专利文献2】日本特开2007-176764号公报

专利文献1、2公开了针对规定的退火速度调整玻璃成分以获得期望的折射率。但是,有时光学玻璃的生产者与使用该光学玻璃的光学元件的生产者不同,在该情况下,光学玻璃的生产者虽然可以调整玻璃成分,但不能选择最终决定光学元件的折射率和阿贝数的退火速度。另一方面,光学元件的生产者虽然可以设定退火速度等在生产光学元件过程中的遇热经历,但不能调整玻璃成分。这种情况对高效生产具有期望光学特性的光学元件这一方面造成了障碍。

像这样的玻璃生产者与光学元件生产者之间、或者玻璃生产者与光学元件设计方之间的问题是随着光学元件的高功能化、高性能化而产生的问题。这是因为,根据本发明人的理解,如果确定了构成光学元件的玻璃成分,则不管怎样调整在生产光学元件过程中的退火速度,折射率nd和阿贝数vd都仅在一个轴为折射率nd、另一个轴为阿贝数vd的vd-nd平面内,在唯一确定的直线上移动,不会取得偏离于直线的座标。为了同时调整折射率nd和阿贝数vd,需要通过适当调整玻璃成分,来改变玻璃所具有的作为基准的光学特性值(例如,基准折射率等),在利用所需的退火速度进行退火时获得期望的光学特性。但是,在不能共有玻璃生产者所具有的关于成分的信息和光学元件生产者所具有的关于退火的信息的情况下,调整上述成分并非易事,很难解决问题。

发明内容

因此,本发明的目的在于提供能够解决这样的课题的手段。具体地说,其目的在于提供如下的手段:即使在使用光学玻璃的光学元件生产者与该光学玻璃生产者不同的情况下,也能根据规定信息来生产具有期望折射率的光学元件。此外,本发明的另一目的在于提供如下的手段:除了折射率之外,阿贝数也与折射率相同,即使在使用光学玻璃的光学元件生产者与该光学玻璃生产者不同的情况下,也能根据规定信息来生产具有期望阿贝数的光学元件。

实现上述目的的本发明如下所述。

[1]

一种组合体,其中,该组合体包含:光学玻璃坯料;以及表示物,其表示包括该光学玻璃坯料的退火系数β值和基准折射率ns值在内的物性值。

[2]

根据[1]所述的组合体,其中,上述组合体用于求出退火装置所具有的实效冷却速度,

在包含对冲压成型而获得的玻璃制光学元件进行退火的工序的、玻璃制光学元件制造方法的上述退火工序中,使用上述退火装置,

根据由上述退火装置进行退火而获得的、由上述组合体中包含的玻璃坯料构成的玻璃制光学元件在规定波长下的折射率n0、以及上述基准折射率ns和退火系数β值在规定波长下的各个值,按照下式来求出上述实效冷却速度,

R0=Rs/10Δn/β

在该式中,R0是实效冷却速度,Rs是基准退火速度,Δn=折射率n0-基准折射率ns,β是退火系数β值。

[3]

根据[1]所述的组合体,其中,

上述组合体用于对玻璃制光学元件的折射率进行预测的方法,

上述玻璃制光学元件是在包含如下工序的玻璃制光学元件制造方法中获得的,该工序为:对于对上述组合体中包含的玻璃坯料、即玻璃坯料B进行冲压成型而获得的玻璃制光学元件,在退火装置中对该玻璃制光学元件进行退火,

上述预测方法包含如下工序:根据上述退火装置所具有的实效冷却速度、以及规定波长下的上述基准折射率ns和退火系数β值,按照下式求出利用在下述条件下运转的上述退火装置进行退火而获得的玻璃制光学元件在上述波长下的折射率n0,其中,该条件与求出上述实效冷却速度的退火条件相同,

n0=ns-β×log10R0

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