[发明专利]一种纳米级尺寸结构测量方法及装置有效
申请号: | 201010133464.1 | 申请日: | 2010-03-29 |
公开(公告)号: | CN101799273A | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | 刘世元;张传维;史铁林;陈修国 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | G01B11/02 | 分类号: | G01B11/02;G01B11/24;G01B9/04 |
代理公司: | 华中科技大学专利中心 42201 | 代理人: | 曹葆青 |
地址: | 430074 湖北*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 纳米 尺寸 结构 测量方法 装置 | ||
1.一种纳米级尺寸结构测量方法,其特征在于:
第1步 白光光束经滤光、起偏后垂直投射到包含纳米级尺寸结构的样件表面,投射到样件表面的线性偏振光束波长为400~600nm;
第2步 投射光束经样件表面反射,利用置于样件共轭面上的电荷耦合器接收该反射信号,计算得到纳米级尺寸结构的显微成像图;
第3步 将样件在最佳焦平面附近垂直移动,得到不同离焦位置的纳米级尺寸结构的显微成像图;
第4步 将各离焦位置的显微成像图按离焦量进行组合,得到该纳米级尺寸结构的测量离焦扫描成像分布图;
第5步 对不同类型的纳米级尺寸结构进行仿真,得到纳米级尺寸结构对应的理论离焦扫描成像分布图;
第6步 将测量离焦扫描成像分布图与理论离焦扫描成像分布图进行匹配,提取得到待测纳米级尺寸结构的几何参数值。
2.一种实现权利要求1所述纳米级尺寸结构测量方法的装置,其特征在于:
该装置包括白光光源(11),彩色滤光片(12),偏振片(13),小孔光阑(14),视场透镜(15),分光镜(16),第一物镜(17),纳米级垂直平移台(19),第二物镜(20),平面反射镜(21),图像采集卡(22),计算机(23)以及运动控制器(24);
白光光源(11),彩色滤光片(12),偏振片(13),小孔光阑(14),视场透镜(15),分光镜(16),第一物镜(17)依次位于同一光路上,纳米级垂直平移台(19)位于第一物镜(17)的出射光路上,光束经第一物镜(17)汇聚后垂直投射到纳米级垂直平移台上;第二物镜(20)与第一物镜(17)相对于分光镜(16)的反射点对称放置,平面反射镜(21)位于第二物镜(20)出射光路上,图像采集卡(22)位于平面反射镜(21)出射光路上,计算机(23)分别与图像采集卡(22)和运动控制器(24)相连,运动控制器(24)与纳米级垂直平移台(19)相连,控制纳米级垂直平移台(19)运动。
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