[发明专利]评估掩模相关误差源的系统和方法有效
申请号: | 201010134631.4 | 申请日: | 2010-03-01 |
公开(公告)号: | CN101957557A | 公开(公告)日: | 2011-01-26 |
发明(设计)人: | 莱维·法维舍维斯基;瑟基·赫日斯托;埃米尔·莫什·萨基乌;舍缪尔·孟甘 | 申请(专利权)人: | 以色列商·应用材料以色列公司 |
主分类号: | G03F1/14 | 分类号: | G03F1/14 |
代理公司: | 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 | 代理人: | 徐金国;钟强 |
地址: | 以色列*** | 国省代码: | 以色列;IL |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 评估 相关 误差 系统 方法 | ||
1.一种评估掩模相关误差源的方法,该方法包括:
接收表示掩模多个图像的数据,该多个图像在不同曝光条件下获得;
对于多个图像多个子帧中的每个子帧计算子帧像素强度函数以提供多个计算值;和
基于计算值和基于函数对每个误差源的敏感度检测误差源。
2.根据权利要求1的方法,其中该函数是强度积分。
3.根据权利要求1的方法,包括对于至少一个子帧计算至少一个子帧的像素强度的多个函数,以提供多个计算值。
4.根据权利要求3的方法,其中一个函数是强度积分。
5.根据权利要求3的方法,其中一个函数是强度方差。
6.根据权利要求1的方法,包括在设置在不同帧内相同位置处的子帧相关的计算值之间进行比较。
7.根据权利要求1的方法,其中一个图像组通过采用空间图像条件获得,和至少一个另一图像组在不同于空间图像条件的曝光条件下获得。
8.根据权利要求1的方法,其中一个图像组通过采用空间图像条件获得,和至少一个另一图像组在低数值孔径下获得。
9.根据权利要求1的方法,包括通过模拟被模拟掩模中的变化,通过模拟由被模拟掩模照明获得的图像,计算被模拟子帧的函数以提供计算值以及在计算值之间进行比较,来计算函数对每个误差源的敏感度。
10.根据权利要求1的方法,包括通过模拟被模拟掩模中的变化,在多个照明条件下模拟由被模拟掩模的照明获得的图像,计算被模拟子帧的函数以提供计算值以及在计算值之间进行比较,来计算函数对每个误差源的敏感度。
11.根据权利要求1的方法,包括确定通过利用掩模制造的图案特征的变化。
12.根据权利要求1的方法,包括确定与掩模的衰减相移层厚度变化相关的误差源的作用。
13.一种评估掩模相关误差源的系统,该系统包括:接收表示多个图像的数据的界面,该多个图像在不同曝光条件下获得;和处理器,对多个图像多个子帧中的每个子帧计算子帧像素强度函数,以提供多个计算值;和基于计算值和响应于函数对每个误差源的敏感度检测误差源。
14.根据权利要求13的系统,其中函数是强度积分。
15.根据权利要求13的系统,其中处理器对于至少一个子帧计算至少一个子帧的像素强度的多个函数以提供多个计算值。
16.根据权利要求15的系统,其中一个函数是强度积分。
17.根据权利要求15的系统,其中一个函数是强度差分。
18.根据权利要求13的系统,其中处理器在设置在不同帧内相同位置处的子帧相关的计算值之间进行比较。
19.根据权利要求13的系统,其中一个图像通过采用空间图像条件获得和至少一个另一图像在不同于空间图像条件的曝光条件下获得。
20.根据权利要求13的系统,其中一个图像通过采用空间图像条件获得和至少一个另一图像在低数值孔径下获得。
21.根据权利要求13的系统,其中处理器通过模拟被模拟掩模的变化,模拟由被模拟掩模的照明获得的图像,对于多个被模拟子帧计算子帧像素强度函数以及在计算值之间进行比较,来计算函数对每个误差源的敏感度。
22.根据权利要求13的系统,其中处理器通过模拟被模拟掩模中的变化,在多个照明条件下模拟由被模拟掩模的照明获得的图像,对于多个被模拟子帧计算子帧像素强度函数以及在计算值之间进行比较,来计算函数对每个误差源的敏感度。
23.根据权利要求13的系统,其中处理器确定利用该掩模制造的图案特征的变化。
24.根据权利要求13的系统,其中处理器确定与掩模衰减相移层厚度变化相关的误差源的作用。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
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G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备