[发明专利]抗反射涂布材料及包含其的抗反射涂膜

权利要求书

1.一种抗反射涂布材料，包括以下步骤所得的产物：

提供一聚硅倍半氧烷；

将该聚硅倍半氧烷与一硅氧烷化合物反应得到一中间产物；

将该中间产物与一低折射率化合物反应，得到抗反射涂布材料。

2.如权利要求1所述的抗反射涂布材料，其中该聚硅倍半氧烷包含具有如公式(I)所示结构的化合物：

(R¹SiO_(3-x)/2(OH)_x)_n  公式(I)，

其中，X是各自独立且为1或2；n为大于或等于1的整数；R¹是各自独立且为氢、烷基、或芳香基。

3.如权利要求1所述的抗反射涂布材料，其中该硅氧烷化合物包含具有如公式(II)所示结构的化合物：

Si(OR²)₄  公式(II)，

其中，R²是各自独立且为烷基。

4.如权利要求1所述的抗反射涂布材料，其中该低折射率化合物为氟硅氧烷、或具有反应官能基的氟烷化合物。

5.如权利要求4所述的抗反射涂布材料，其中该具有反应官能基的氟烷化合物的该反应官能基为羧基、环氧基、或异氰酸盐基。

6.如权利要求1所述的抗反射涂布材料，其中该硅氧烷化合物具有重量百分比不大于50wt％，以该聚硅倍半氧烷的重量为基准。

7.如权利要求1所述的抗反射涂布材料，其中该低折射率化合物具有重量百分比不大于50wt％，以该聚硅倍半氧烷的重量为基准。

8.一种抗反射涂膜，是由下列步骤所形成的产物：

将权利要求1所述的抗反射涂布材料涂布于一基材上，得到一涂布层；以及

将该涂布层固化以形成一抗反射涂膜。

9.如权利要求8所述的抗反射涂膜，其中固化该涂布层的温度小于100℃。

10.一种抗反射涂布材料，符合下列公式(III)所示结构：

公式(III)，

其中，D是聚硅倍半氧烷除去m个羟基之氢的残基；E是各自独立且为其中R³是氟烷基，i为0、1或2，j为1、2或3，且i+j是等于3；y为1、2或3，z为0、1、或2，且y+z是等于3；以及，m为大于或等于1的整数。

11.如权利要求10所述的抗反射涂布材料，其中D的每一Si原子是与一官能基键结，而该官能基为氢、烷基、或芳香基。

12.一种抗反射涂膜，是由下列步骤所形成的产物：

将权利要求10所述的抗反射涂布材料涂布于一基材上，得到一涂布层；以及

将该涂布层固化以形成一抗反射涂膜。

13.如权利要求12所述的抗反射涂膜，其中固化该涂布层的温度是小于100℃。