[发明专利]下划线删除装置有效

专利信息
申请号: 201010136232.1 申请日: 2010-03-11
公开(公告)号: CN101859379A 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 大峡光晴 申请(专利权)人: 日立软件工程株式会社
主分类号: G06K9/20 分类号: G06K9/20;G06K9/34
代理公司: 北京银龙知识产权代理有限公司 11243 代理人: 许静
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 下划线 删除 装置
【权利要求书】:

1.一种下划线删除装置,其从包含与字符串接触的下划线区域的二值图像数据中删除所述下划线区域,其特征在于,具有:

下划线探索处理部,其以所述二值图像数据上的一点为起点设置长方形的线样板,通过追踪该线样板中包含的像素,进行提取表示下划线位置坐标的折线的线样板匹配处理;以及

下划线删除部,其进行根据所述折线求出所述下划线区域和背景区域的背景边界坐标、以及对所述下划线区域中的与所述字符串接触的部分进行插补处理而得到的所述下划线区域和所述字符串的字符边界坐标的处理,并进行从所述二值图像数据中删除由所述背景边界坐标以及字符边界坐标包围的区域的处理。

2.根据权利要求1所述的下划线删除装置,其特征在于,

所述下划线探索处理部追踪所述线样本内的所述像素中的、满足预定的像素数量的像素。

3.根据权利要求1所述的下划线删除装置,其特征在于,

所述下划线探索处理部还进行以下的处理:从所述折线在垂直方向上追踪像素,当在预定范围以上存在满足预定的像素数量的像素时,判定所述折线为构成表的表格线。

4.根据权利要求1所述的下划线删除装置,其特征在于,

所述下划线删除处理部还进行以下的处理:从所述折线在垂直方向上追踪像素,当在预定范围以上存在满足预定的像素数量的像素时,判定所述字符串与所述下划线区域接触。

5.根据权利要求1所述的下划线删除装置,其特征在于,

所述下划线删除处理部进行以下的处理:使用所述背景区域的像素的颜色置换由所述背景边界坐标以及字符边界坐标包围的区域,由此删除所述下划线区域。

6.一种程序,其特征在于,

使计算机作为权利要求1至5的任意一项所述的下划线删除装置来工作。

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