[发明专利]工业射线胶片专用脱水剂有效
申请号: | 201010136446.9 | 申请日: | 2010-03-31 |
公开(公告)号: | CN101798549A | 公开(公告)日: | 2010-08-11 |
发明(设计)人: | 刘书强;史小萌;昝立伟 | 申请(专利权)人: | 天津美迪亚影像材料有限公司 |
主分类号: | C11D1/83 | 分类号: | C11D1/83;C11D1/04;C11D3/22;C11D3/20;C11D3/08 |
代理公司: | 天津市三利专利商标代理有限公司 12107 | 代理人: | 闫俊芬 |
地址: | 300220*** | 国省代码: | 天津;12 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 工业 射线 胶片 专用 脱水 | ||
技术领域
本发明涉及工业射线胶片手动冲洗加工过程,具体地说,是涉及工业射线胶片在手动冲洗加工过程底片脱水的专用脱水剂。
背景技术
工业射线胶片底片影像信息直观、档案保存性,在传统银盐感光材料与新型数字信息记录材料、常规射线照相检测技术与数字射线检测等新型检测技术的竞争发展中,得到人们的重新认识和肯定。工业射线胶片的产品特点:涂层厚、冲洗加工过程中吸水涨量大,应用特点:手动冲洗占相当比例,用户分布广、气候迥异、冲洗过程中水质条件差异大,冲洗套药生产厂家多、良莠不齐。工业射线底片水渍,是胶片手动冲洗加工过程的常见伪缺陷,对于底片记录的检测影像信息形成干扰噪声。
底片水渍形成的直接原因,在底片水洗后、干燥过程中,涂层与水的润湿作用不一致、干燥速度不均匀。从胶片角度,涂层成份设计、作为涂布助剂的表面活性剂应用以及涂层坚膜剂使用,影响水渍的形成;从冲洗过程而言,冲洗套药的选择、冲洗温度控制能否保证涂层坚膜效果、操作现场配制、冲洗用水的水质条件,则是形成水渍的关键环节。
胶片手动冲洗常规程序:用户解决底片水渍问题,常采用:在常规程序的第④环节后增加一个脱水环节⑤。
即,底片水洗后,在含少量洗洁净的自来水中浸润底片,然后,进行底片干燥。
由于各种家用洗洁净配方的化学成份各异、胶片冲洗人员加入量的不确定,造成手动冲洗加工底片质量的不稳定,甚至在脱水环节对底片产生新污染。
发明内容
本发明提供一种工业射线胶片专用脱水剂配方,避免底片在冲洗加工底片脱水处理过程中产生水渍,同时提高底片干燥效率。
本发明工业射线胶片专用脱水剂,其特征是,由下述组分按照所述重量浓度组成:C12-14脂肪醇聚氧乙烯醚羧酸盐类阴离子型表面活性剂1~5‰、聚氧乙烯烷基酚醚类非离子型表面活性剂1~5‰、柠檬酸钠型促进剂0.2~1‰、硅酸钠型PH调节剂0.05~0.25‰和羧甲基纤维素钠盐影像稳定剂0.01~0.05‰,余量为水。
表面活性剂分子结构中,疏水亲油的碳氢链组成的非极性基团和亲水疏油的极性基团分别处于两个端基,具有在溶液表面的定向吸附特性,能显著降低水的表面张力,改变固体表面的润湿性,兼具较好的渗透和润湿功能。
本发明工业射线胶片专用脱水剂,用于胶片冲洗加工的底片脱水环节。配方设计的主要依据:1805年Young提出的平衡接触角的杨氏方程;固体表面可分为高能表面和低能表面,Fox和Zisman提出的临界表面张力概念,进一步修正了杨氏方程在低能表面润湿性方面的应用(胶片表面涂层成份主要是有机化合物、有机高聚物,表面能小于100mJ.m-2,属于低能表面)。
具体实施方式
下面对本发明做进一步描述。
本发明首先筛选阴离子型和非离子型表面活性剂组合。
适用的阴离子型表面活性剂有α-烯烃磺酸盐类、C14-15脂肪醇醚硫酸盐和C12-14脂肪醇聚氧乙烯醚羧酸盐,定义为AS1、AS2、AS3。
阴离子型表面活性剂筛选实验:
任意取3片工业射线胶片样品(规格:80*360mm),每1片均分为3份,分别编号为1#-1、1#-2和1#-3,2#-1~3,3#1~3。按照常规、标准手动冲洗程序,加工至底片水洗结束。使用相同浓度(1~5‰)的阴离子型表面活性剂水溶液浸润底片0.5分钟,然后在相同条件下进行底片干燥,Tg是干片时间。
以上实验条件下,使用AS3表面活性剂,干片时间最短。
适用的非离子型表面活性剂有聚氧乙烯烷基酚醚型和脂肪酸多元醇酯型,定义为NS1、NS2。
非离子型+阴离子型表面活性剂组合筛选实验:
任意取2片工业射线胶片样品(规格:80*240mm),每1片均分为2份,分别编号为1#-1和1#-2,2#-1~2。按照常规、标准手动冲洗程序,加工至底片水洗结束。浓度(1~5‰)AS3阴离子型表面活性剂水溶液与非离子型表面活性剂组合(其浓度控制为1~5‰)。底片浸润0.5分钟,然后在相同条件下进行底片干燥,水渍程度表示为M(“0”无水渍,“1”轻度水渍,“2”严重水渍)。
上述实验条件下,使用NS1非离子型表面活性剂,水渍程度较轻。
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