[发明专利]生产平板太阳能吸热镀膜板的方法及装置

权利要求书

1.生产平板太阳能吸热镀膜板的方法，该方法是以大面积单张金属片作为太阳能镀膜板的基片，基片以断续方式被转动辊轴传送快速进入和通过卧式镀膜装置中的前真空锁定室、前保持室，进入到至少有3组磁控溅射靶与相应的溅射腔室的连续镀膜室中，基片在连续镀膜室内由减速机拖动的水平布置转动辊轴一片接一片的、连续匀速的传送，基片经过磁控溅射靶与相应的溅射腔室，在基片上依次沉积由金属膜组成的红外光波反射层/至少一组由金属膜或金属介质复合膜与介质膜组成的干涉膜堆/减反射层，或者在基片上依次沉积由金属膜组成的红外光波反射层/吸热半导体材料膜或金属介质复合材料膜/减反射层，从而在基片上形成太阳能吸收功能膜，连续镀膜室后有后保持室和后真空锁定室，基片的出片与进片方式相同，也是以断续方式被转动辊轴传送快速退出和通过后保持室和后真空锁定室，进片、镀膜和出片的具体方法为：外界大气与前真空锁定室之间、前真空锁定室与前保持室之间、前保持室与连续镀膜室之间、连续镀膜室与后保持室之间、后保持室与后真空锁定室之间、后真空锁定室与外界大气之间设有真空阀门，当前、后真空锁定室和前、后保持室的真空度达到连续镀膜室的镀膜工作真空度1-9×10-1Pa，各室与室之间的真空阀门开启让基片分批次按生产节奏进入连续镀膜室或退出连续镀膜室，前、后真空锁定室与大气之间的真空阀门开闭一次进出镀膜基片一片或一批为一个生产节奏，是断续进片方式，而在连续镀膜室中基片一片或一批均为连续走片方式，基片上形成太阳能吸收功能膜后，被转动辊轴传送快速依次从后保持室和后真空锁定室以断续方式快速出片，生产出平板太阳能吸热镀膜板。

2.如权利要求1所述的生产平板太阳能吸热镀膜板的方法，其特征在于在前保持室与连续镀膜室之间、连续镀膜室与后保持室之间，基片是按生产节奏的断续快速的进片或出片方式，变为基片呈一片接一片的连续匀速行进方式，也即在前保持室与连续镀膜室之间、连续镀膜室与后保持室之间有一段缓冲区，使基片按生产节奏的断续快速的进片方式在前缓冲区中变为呈一片接一片的连续匀速行进方式进入连续镀膜室，基片上形成太阳能吸收功能膜后，基片呈一片接一片的连续匀速行进方式退出连续镀膜室进入后缓冲区中，使基片在后缓冲区中形成按生产节奏的断续快速的出片方式。

3.如权利要求1或2所述的生产平板太阳能吸热镀膜板的方法，其特征在于基片片与片或批与批之间的距离为20毫米至500毫米。

4.如权利要求1或2所述的生产平板太阳能吸热镀膜板的方法，其特征在于连续镀膜室至少3组溅射靶及相应的溅射腔室之间由隔板分割而形成各自独立的腔室，各自独立的腔室有独立的磁控溅射电源及工艺充气控制单元系统，每组溅射靶分别单独控制电源功率和镀膜所需的工艺气体。

5.如权利要求1或2所述的生产平板太阳能吸热镀膜板的方法，其特征在于溅射靶及相应的溅射腔室之间至少有一个真空抽气室做为隔离腔室，以保持靶位、腔室之间不窜气，避免各腔室之间互相干扰工艺气体和真空度。

6.如权利要求1或2所述的生产平板太阳能吸热镀膜板的方法，其特征在于溅射靶及相应的溅射腔室中单独的靶的类型是直流平面靶、直流柱形靶、中频交流平面靶、中频交流柱形靶中的至少一种。

7.如权利要求1或2所述的生产平板太阳能吸热镀膜板的方法，其特征在于镀介质膜或金属介质复合膜或吸热半导体材料膜的磁控溅射靶是中频交流柱形旋转靶或者中频交流平面靶，靶材是金属靶，溅射时充入工艺气体Ar以及N₂和/或O₂沉积成金属氮和/或氧化合物或金属介质复合膜或者吸热半导体材料膜。

8.如权利要求7所述的生产平板太阳能吸热镀膜板的方法，其特征在于溅射腔室镀介质膜或金属介质复合膜或吸热半导体材料膜的中频交流柱形旋转靶或中频交流平面靶为A靶，镀金属膜或红外光波反射膜的直流平面靶为B靶，其A靶与B靶的配置依次序为1至4个B靶/1至5个A靶/1至4个B靶/1至5个A靶/1至4个B靶/1至5个A靶，或者配置为1至4个B靶/1至5个A靶/1至5个A靶，在基片上依次沉积由金属膜组成的红外光波反射层/至少一组由金属膜或金属介质复合膜与介质膜组成的干涉膜堆/减反射层，或者在基片上依次沉积由金属膜组成的红外光波反射层/吸热半导体材料膜或金属介质复合材料膜/减反射层，生产出太阳能吸热功能膜系。