[发明专利]光催化自洁涂料及其制备方法无效
申请号: | 201010137571.1 | 申请日: | 2010-03-26 |
公开(公告)号: | CN101845272A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | 陆志军;甘立英;李春连;臧杰;陆建军 | 申请(专利权)人: | 福建瑞森化工有限公司 |
主分类号: | C09D183/08 | 分类号: | C09D183/08;C09D7/12 |
代理公司: | 厦门市首创君合专利事务所有限公司 35204 | 代理人: | 李国兴 |
地址: | 364400 福建*** | 国省代码: | 福建;35 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 光催化 涂料 及其 制备 方法 | ||
1.一种光催化自洁涂料,其特征在于它是由下述重量配比组成的:
端羟基含氟聚硅氧烷 20~40 小分子硅氧烷 1~3
纳米二氧化硅 2~6 十溴二苯乙醚 4~6,
氢氧化铝 6~12 二氧化钛 0.5~1.2
铁红 1~3 交联剂 1~3
催化剂 0.3~0.5 溶剂 40~60。
2.根据权利要求1所述的光催化自洁涂料,其特征在于所述端羟基聚硅氧烷粘度为4800cp~12600cp。
3.根据权利要求1所述的光催化自洁涂料,其特征在于所述小分子硅氧烷为三甲基硅封端的聚二甲基硅氧烷,粘度为500~1000cp。
4.根据权利要求1所述的光催化自洁涂料,其特征在于所述纳米二氧化硅的比表面积为150~250m2/g。
5.根据权利要求1所述的光催化自洁涂料,其特征在于所述纳米二氧化钛为金红石型二氧化钛,其粒径为5~40nm。
6.根据权利要求1所述的光催化自洁涂料,其特征在于所述铁红为三氧化二铁。
7.根据权利要求1所述的光催化自洁涂料,其特征在于所述交联剂为甲基三丁酮肟、乙烯基丁酮肟基硅烷、甲基三丙酮基硅烷中的一种。
8.根据权利要求1所述的光催化自洁涂料,其特征在于:催化剂为二月桂酸二丁基锡、辛酸亚锡中的一种。
9.根据权利要求1所述的光催化自洁涂料,其特征在于:溶剂为N,N-二甲基乙酰胺。
10.一种光催化自洁涂料的制备方法,其特征在于:将端羟基含氟聚硅氧烷、纳米二氧化硅、十溴二苯乙烷、氢氧化铝、二氧化钛、颜料分别计量送入真空捏合机中混合,升温至100-160℃加热混炼1.5~3个小时,经真空脱低分子2~3小时、冷却后,经三辊研磨后再按量加入无水溶剂稀释到所需粘度后,经过胶体磨乳化3~4遍,加入交联剂和催化剂,混合均匀后在惰性气体保护下过滤装在隔绝空气的容器中。
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