[发明专利]一种利用双缝干涉法测量偏振态的装置及方法有效

专利信息
申请号: 201010137833.4 申请日: 2010-03-30
公开(公告)号: CN101846553A 公开(公告)日: 2010-09-29
发明(设计)人: 白云峰;董娟;李艳秋 申请(专利权)人: 北京理工大学
主分类号: G01J4/00 分类号: G01J4/00
代理公司: 北京理工大学专利中心 11120 代理人: 张利萍
地址: 100081 *** 国省代码: 北京;11
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摘要:
搜索关键词: 一种 利用 干涉 测量 偏振 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种利用双缝干涉法测量偏振态的装置,其特征在于包括偏振片(1)、挡光板(2)和CCD探测器(3);其中挡光板(2)上有两条狭缝,除了挡光板(2)上的两条狭缝外,挡光板(2)上的其余部分完全不透光;沿光路方向依次为偏振片(1)、挡光板(2)和CCD探测器(3)。

2.一种利用双缝干涉法测量偏振态的方法,其特征在于其具体步骤为:

1)将偏振片(1)覆盖在挡光板(2)的一条狭缝上,然后沿光路方向依次固定挡光板(2)和CCD探测器(3);

2)平行入射光照射在挡光板(2)上,平行入射光透过挡光板(2)上的两条狭缝在CCD探测器(3)成像,形成干涉条纹;

3)根据相干理论,推导CCD探测器(3)上任意点如P点光强表达式如式(1):

I(P)=I02r12+I0r22+(Ex2+Ey2)(12r12+1r22)+ExEyr12cosα]]>

+Ex2(cosβcosθ+sinβsinθ)+Ey2r1r2cos[2πλ(r1-r2)]]]>

+ExEy(cosβcosθ+sinβsinθ+1)r1r2cos[α+2πλ(r1-r2)]---(1)]]>

4)在步骤2)得到的干涉条纹中任取一段根据步骤3)中的式(1)进行拟合,得到平行入射光的偏振态。

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