[发明专利]一种低张力ITO蚀刻液无效
申请号: | 201010139056.7 | 申请日: | 2010-04-01 |
公开(公告)号: | CN101792667A | 公开(公告)日: | 2010-08-04 |
发明(设计)人: | 殷福华;栾成;邵勇;朱龙 | 申请(专利权)人: | 江阴市江化微电子材料有限公司 |
主分类号: | C09K13/00 | 分类号: | C09K13/00 |
代理公司: | 南京众联专利代理有限公司 32206 | 代理人: | 何军 |
地址: | 214423 江苏省江*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 张力 ito 蚀刻 | ||
一、技术领域
本发明涉及一种低张力ITO蚀刻液,尤其涉及一种草酸型低张力ITO蚀刻液。
二、背景技术
草酸型ITO蚀刻液,本品为无色透明液体,显酸性,该产品主要用于TFT-LCD、LED、OLED等行业用作面板制程中的ITO层的蚀刻剂。目前ITO蚀刻液主要由草酸晶体和纯水为组成,该产品主要存在以下几点缺点:①目前国内厂家使用的草酸型ITO蚀刻液液的表面张力在70左右,对ITO层的浸润性不足,导致蚀刻后存在微晶体残留;②在低于5℃时容易结晶,运输时需要使用保温运输,运输成本高;同时客户在使用时容易致使客户端过滤器堵塞,影响客户设备及使用。
三、技术内容
针对上述缺点,本发明的目的在于提供一种表面张力低于70和结晶温度低于5℃的低张力ITO蚀刻液。
本发明的技术内容为,一种低张力ITO蚀刻液,其特征是它包括以下重量百分比的组份
草酸 3.2~3.6
正己酸 0.1~0.2
水 96.2~96.6。
本发明在原有工艺的基础上新加入了添加剂正己酸,添加剂正己酸的作用:加入正己酸后,能有效降低ITO蚀刻液的表面张力,使其能够产生渗透,浸润的作用,提高草酸的蚀刻效果,使其在不影响产品质量的前提下提高产品的蚀刻效果,并使产品能在较低的环境温度下保存,避免了原有技术造成的蚀刻不干净,不能在低温下储存的缺点,本方法能适用于大规模生产。
本发明与现有技术相比所具有的优点是:
1、表面张力低于70,蚀刻效果佳,无微晶体残留。
2、0℃~5℃下不结晶,不影响客户端设备,还可降低运输成本。
四、具体实施方式
下面通过实施例进一步描述本发明,但未限于所举的实施例。
纯度为99.6重量%的草酸晶体,优等品,吴江市黎里东阳助剂厂生产,其指标如表1
表1
浓度为99重量%的正己酸,优等品,邯郸市科正化工有限公司生产,其指标如表2
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