[发明专利]一种铝钼蚀刻液

说明书

一、技术领域

本发明涉及一种铝钼蚀刻液，尤其涉及一种用于铝层和钼层的蚀刻的铝钼蚀刻液。

二、背景技术

铝钼蚀刻液，本品为无色透明液体，有酸性气味，该产品主要用作半导体或FPD面板制程中铝层和钼层的蚀刻，目前铝钼蚀刻液主要由磷酸、硝酸和醋酸组成；该铝钼蚀刻液主要存在以下几点缺点：

①铝钼蚀刻液蚀刻角度难以控制，无法满足不同客户对蚀刻角度的需求，使用效果不是很好，影响产品的良率；

②铝钼蚀刻液对金属层的蚀刻量难以控制，无法满足不同客户对蚀刻角度的需求，容易时刻过量，也会影响到产品的优良率。

三、技术内容

针对上述缺点，本发明的目的在于提供一种蚀刻角度和蚀刻量能满足客户要求和提高蚀刻产品优良率的铝钼蚀刻液。

本发明的技术内容为，一种铝钼蚀刻液，其特征是它包括以下重量百分比的组份

磷酸                                      60～80

硝酸                                      1～10

醋酸钠                                    1～10

非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚      0.1～0.5

水                                        10～30。

本发明的铝钼蚀刻液的制备方法为常规工艺，即为将原料磷酸、硝酸、醋酸钠、非离子型表面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚和水按比例打入调配罐中，经过0.5um过滤器循环过滤，表面张力，达到所需要求；经0.2μm的过滤器过滤，以去除混合液中粒径大于0.2μm的有害粒子，即得铝钼蚀刻液。

本发明的铝钼蚀刻液在原有工艺的基础上，引入了醋酸钠和聚氧乙烯烷基苯基醚，使其在不影响产品质量的前提下，提高了产品的功能性，使其在刻蚀角度、刻蚀量上达到客户所需。

本发明与现有技术相比所具有的优点是：

1、本发明的铝钼蚀刻液引入的醋酸钠起到了缓冲剂的作用，使刻蚀速度得到控制，从而达到控制住刻蚀角度的要求；能满足不同客户对刻蚀角度的要求。

2、本发明的铝钼蚀刻液中加入了非离子型界面活性剂聚氧乙烯烷基苯基醚，使产品对金属层的渗透性提高，从而达到控制刻蚀量的要求，能满足不同客户对刻蚀量的要求。

四、具体实施方式

下面通过实施例进一步描述本发明，但未限于所举的实施例。

浓度为85重量％的磷酸，电子级，江阴澄星磷化工有限公司生产，其指标如表1