[发明专利]等离子体处理装置无效
申请号: | 201010139852.0 | 申请日: | 2010-03-30 |
公开(公告)号: | CN101853764A | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
发明(设计)人: | 舆水地盐 | 申请(专利权)人: | 东京毅力科创株式会社 |
主分类号: | H01J37/32 | 分类号: | H01J37/32;H01J37/30;H01J37/04 |
代理公司: | 北京林达刘知识产权代理事务所(普通合伙) 11277 | 代理人: | 刘新宇;陈立航 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 等离子体 处理 装置 | ||
1.一种等离子体处理装置,其特征在于,具备:
处理容器,其在内部中对被处理体实施等离子体处理;
第一高频电源,其输出高频电力;
高频天线,其由外侧线圈、内侧线圈以及设置在上述外侧线圈和上述内侧线圈之间的n个的中间线圈相对于中心轴以同心状卷绕而形成在上述处理容器的外部,其中n为1以上的整数;以及
电介质窗,其设置在上述处理容器的开口部,将由上述高频天线产生的电磁场的能量导入到上述处理容器内。
2.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,
该装置具备电力分割部,该电力分割部至少被设置在上述外侧线圈以及上述内侧线圈之间,并将从上述第一高频电源输出的高频电力以所期望的比例进行分割并提供给各线圈。
3.根据权利要求2所述的等离子体处理装置,其特征在于,
上述电力分割部设置在上述各线圈之间,将从上述第一高频电源输出的高频电力以所期望的比例进行分割并提供给各线圈。
4.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,
上述各线圈中的至少任意一个形成为可动式,以此使得与上述电介质窗的距离为可变。
5.根据权利要求4所述的等离子体处理装置,其特征在于,
在两个线圈之间未设置有上述电力分割部的情况下,这两个线圈中的任意一个形成为可动式。
6.根据权利要求2所述的等离子体处理装置,其特征在于,
两个以上的上述电力分割部相对于上述中心轴而对称地被设置。
7.根据权利要求2所述的等离子体处理装置,其特征在于,
两个以上的上述电力分割部相对于上述中心轴而非对称地被设置,
上述电力分割部与高频天线所存在的空间被屏蔽部件所屏蔽。
8.根据权利要求1至7中的任意一项所述的等离子体处理装置,其特征在于,
上述外侧线圈、上述内侧线圈以及上述中间线圈分别由多个线圈形成,
形成上述外侧线圈的多个线圈的各供电点设置于相对于上述中心轴而对称的位置,
形成上述中间线圈的多个线圈的各供电点设置于相对于上述中心轴而对称的位置,
形成上述内侧线圈的多个线圈的各供电点设置于相对于上述中心轴而对称的位置。
9.根据权利要求8所述的等离子体处理装置,其特征在于,
上述各线圈的供电点是相对于上述中心轴以180°、120°、90°、72°、60°中的任一间隔被配置。
10.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,
上述各线圈分别经由隔直电容器而被接地。
11.根据权利要求2所述的等离子体处理装置,其特征在于,
两个以上的上述电力分割部具有可变电容器。
12.根据权利要求2所述的等离子体处理装置,其特征在于,该装置具备:
测定器,其测定提供给上述各线圈的高频率的电流、电压、相位中的至少任意一个;以及
控制装置,其根据通过上述测定器所测定的高频率的电流、电压、相位中的至少任意一个来控制由上述电力分割部进行分割的电力比。
13.根据权利要求12所述的等离子体处理装置,其特征在于,
上述控制装置具有存储器,按照预先存储在上述存储器中的制法来控制由上述电力分割部进行分割的电力比。
14.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,
该等离子体处理装置具备输出高频电力的第二高频电源,
上述外侧线圈、上述内侧线圈以及上述中间线圈中的任意一个连接于上述第一高频电源,
未与上述第一高频电源相连接的剩余的两个线圈连接于上述第二高频电源,
该等离子体处理装置还具备电力分割部,该电力分割部将从上述第二高频电源输出的高频电力以所期望的比例进行分割并提供给上述剩余的两个线圈。
15.根据权利要求14所述的等离子体处理装置,其特征在于,
上述第一高频电源连接于上述外侧线圈,
上述第二高频电源连接于上述内侧线圈以及上述中间线圈。
16.根据权利要求1所述的等离子体处理装置,其特征在于,
该等离子体处理装置具备输出高频电力的第二高频电源以及第三高频电源,
上述外侧线圈、上述内侧线圈以及上述中间线圈中的任意一个连接于上述第一高频电源,
未与上述第一高频电源相连接的剩余的两个线圈中的一个连接于上述第二高频电源,上述剩余的两个线圈中的另一个连接于上述第三高频电源。
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