[发明专利]一种基于集成电路设计流程的设计项目管理方法及系统无效

专利信息
申请号: 201010140624.5 申请日: 2010-04-07
公开(公告)号: CN102214325A 公开(公告)日: 2011-10-12
发明(设计)人: 吴玉平;陈岚;叶甜春 申请(专利权)人: 中国科学院微电子研究所
主分类号: G06Q10/00 分类号: G06Q10/00
代理公司: 北京市德权律师事务所 11302 代理人: 王建国
地址: 100029 北*** 国省代码: 北京;11
权利要求书: 查看更多 说明书: 查看更多
摘要:
搜索关键词: 一种 基于 集成电路设计 流程 设计 项目 管理 方法 系统
【权利要求书】:

1.一种基于集成电路设计流程的设计项目管理方法,其特征在于,包括:

步骤1,设定集成电路设计流程;

步骤2,设定设计项目的进度计划、人力资源分配和软件工具配置;

步骤3,自动生成顶层设计项目的进度计划、人力资源分配和软件配置;

步骤4,自动检查设计项目的进度计划和人力资源的合理性;

步骤5,为设计项目自动预定和调度人力资源和软件资源。

2.如权利要求1所述的基于集成电路设计流程的设计项目管理方法,其特征在于,还包括:

步骤6,自动调整和优化设计项目的未来进度计划;

步骤7,自动生成层次化的设计项目进展报告;

步骤8,自动分析设计项目潜在的进度、人力和软件资源问题; 

步骤9,自动优化进度计划、人力资源和软件资源配置。

3.如权利要求1所述的基于集成电路设计流程的设计项目管理方法,其特征在于,步骤1包括:

步骤10,设定流程点; 

步骤11,设定流程点之间的顺序; 

步骤12,设定流程点之间的条件转移的条件。

4.如权利要求1所述的基于集成电路设计流程的设计项目管理方法,其特征在于,步骤2中:

设定设计项目的进度计划包括设定开始时间、结束时间、持续时间和时间容限;

设定人力资源分配包括设定人名、角色、可用时间比和自动联系方式;

设定软件工具配置包括设定版本、自动预约命令、自动取消命令、自动延期命令和自动结束命令。

5.如权利要求1所述的基于集成电路设计流程的设计项目管理方法,其特征在于,步骤3包括:

步骤31,根据设计项目的层次化信息为各子单元的设计项目展开设计流程;

步骤32,根据子单元的设计规模按预设的规则自动估算出设计进度计划;

步骤33,根据底层设计项目的进度计划、人力资源分配和软件配置预定工具;

其中底层设计项目的进度计划、人力资源分配和软件配置由管理人员手工设定。

6.如权利要求1所述的基于集成电路设计流程的设计项目管理方法,其特征在于,步骤4包括:

步骤41,根据流程点之间的关系检查流程点之间的时间设置冲突; 

步骤42,根据预置的规则检查各流程点的进度计划合理性;

步骤43,根据预置的规则检查流程点的人力资源合理性;

步骤44,对层次化设计项目检查不同子项目之间的人力资源安排上的冲突;

步骤45,对层次化设计中有依赖关系的设计单元根据流程点之间的数据依赖关系检查不同设计单元是否有潜在的进度问题。

7.如权利要求1所述的基于集成电路设计流程的设计项目管理方法,其特征在于,步骤5包括:

步骤51,主监控程序轮询流程点的进度计划、人力资源和软件工具设置,根据预定的时间提前通知相关的设计人员工作流程点的开始的时间、持续时间、输入数据和设计要求;

步骤52,根据预定的时间提前自动预定流程点对应的设计工具; 

步骤53,在设计人力资源减少的情况下向设计工具管理程序发出信息,自动撤销部分工具授权数的预定;

步骤54,在多数前流程点实际使用时间超过进度计划时间的情况下自动延长工具使用时间;

步骤55,在前流程点进展延后的情况下自动推迟工具的使用时间;

步骤56,自动在工具使用结束时自动设计工具管理程序发出信息,从工具使用注册表中退出工具使用登记。

8.如权利要求2所述的基于集成电路设计流程的设计项目管理方法,其特征在于,步骤6包括:

步骤61,流程点结束时根据可用时间自动调整子项目后续流程点的时间窗口;

步骤62,流程点结束时若该子项目的流程点为全部通流程点中最后一个结束的流程点,则自动调整父项目后续流程点的时间窗口;

步骤63,同一子项目具体流程点的时间窗口在设计迭代的不同阶段可变,根据设计流程内流程点重复执行的次数和实际性能与目标性能之间的距离并根据经验参数自动缩短具体流程点的时间窗口,并相应地调整后续流程点的时间窗口;

步骤64,依据类似设计单元之间的可比性,根据子单元的规模自动按经验参数比例调整流程点的时间窗口。

下载完整专利技术内容需要扣除积分,VIP会员可以免费下载。

该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院微电子研究所,未经中国科学院微电子研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服

本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010140624.5/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。

×

专利文献下载

说明:

1、专利原文基于中国国家知识产权局专利说明书;

2、支持发明专利 、实用新型专利、外观设计专利(升级中);

3、专利数据每周两次同步更新,支持Adobe PDF格式;

4、内容包括专利技术的结构示意图流程工艺图技术构造图

5、已全新升级为极速版,下载速度显著提升!欢迎使用!

请您登陆后,进行下载,点击【登陆】 【注册】

关于我们 寻求报道 投稿须知 广告合作 版权声明 网站地图 友情链接 企业标识 联系我们

钻瓜专利网在线咨询

周一至周五 9:00-18:00

咨询在线客服咨询在线客服
tel code back_top