[发明专利]辐射敏感组成物有效

专利信息
申请号: 201010141699.5 申请日: 2010-03-29
公开(公告)号: CN102207677A 公开(公告)日: 2011-10-05
发明(设计)人: 叶景裕;杨明华;林明贤;陈世杰 申请(专利权)人: 品青企业股份有限公司;王童基;叶景裕
主分类号: G03F7/004 分类号: G03F7/004;G03F7/039
代理公司: 北京律诚同业知识产权代理有限公司 11006 代理人: 梁挥;祁建国
地址: 中国台*** 国省代码: 中国台湾;71
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摘要:
搜索关键词: 辐射 敏感 组成
【权利要求书】:

1.一种辐射敏感组成物,施用在一基板上形成图像层,其特征在于,在该组成物为含有金属离子结构单元的共聚合高分子,其结构单元如通式I所示:

通式I

其中M为锌、镁、铜二价金属离子,X可为O,S,N,聚环氧烷基,n≥1。

2.根据权利要求1所述的辐射敏感组成物,其特征在于,该共聚合高分子含金属离子结构的反应性单体可如通式II所示:

通式II

其中R1与R2可为H或CH3,M为锌、镁、铜二价金属离子,X与Y可为O,S,N,聚环氧烷基。

3.根据权利要求1所述的辐射敏感组成物,其特征在于,还包含辐射吸收性染料、溶剂、表面活性剂、着色剂、湿润剂、酸生成剂或其组合。

4.根据权利要求1所述的辐射敏感组成物,其特征在于,该基板为一印刷用板。

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