[发明专利]硅单晶提拉用石英玻璃坩埚有效

专利信息
申请号: 201010143526.7 申请日: 2010-03-25
公开(公告)号: CN101857969A 公开(公告)日: 2010-10-13
发明(设计)人: 小玉真喜子;岸弘史;神田稔 申请(专利权)人: 日本超精石英株式会社
主分类号: C30B15/10 分类号: C30B15/10
代理公司: 北京律盟知识产权代理有限责任公司 11287 代理人: 沈锦华
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 硅单晶提拉用 石英玻璃 坩埚
【权利要求书】:

1.一种硅单晶提拉用石英玻璃坩埚,其特征在于:

包括侧壁部、弯曲部及底部,且包括设置在坩埚内表面侧的透明石英玻璃层、及设置在坩埚外表面侧的内含多个气泡的不透明石英玻璃层,

所述透明石英玻璃层的气泡含有率为0.1%以下,所述不透明石英玻璃层的气泡含有率大于所述透明石英玻璃层的气泡含有率,

所述不透明石英玻璃层所含的气泡的直径分布为:具有小于40μm的直径的气泡为10%以上且小于30%,具有40μm以上且小于90μm的直径的气泡为40%以上且小于80%,具有90μm以上的直径的气泡为10%以上且小于30%。

2.根据权利要求1所述的硅单晶提拉用石英玻璃坩埚,其特征在于:

坩埚上部的所述不透明石英玻璃层与坩埚下部的所述不透明石英玻璃层相比,具有含有更多直径较大的气泡的直径分布,且具有更高的气泡含有率。

3.根据权利要求1所述的硅单晶提拉用石英玻璃坩埚,其特征在于:

所述侧壁部的所述不透明石英玻璃层与所述底部的所述不透明石英玻璃层相比,具有含有更多直径较大的气泡的直径分布,且具有更高的气泡含有率。

4.根据权利要求1所述的硅单晶提拉用石英玻璃坩埚,其特征在于:

所述不透明石英玻璃层随着自所述底部朝向所述侧壁部而具有含有更多直径较大的气泡的直径分布,且具有更高的气泡含有率。

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