[发明专利]蓝宝石图形衬底的制作方法

权利要求书

1.一种蓝宝石图形衬底的制作方法，其特征在于：

(1)、在蓝宝石的上表面沉积一层低折射率材料、厚度为1埃---999埃的薄膜；

(2)、用光阻在所述的薄膜上制备掩模图形；

(3)、通过刻蚀，将光刻胶掩模的图形转移到所述的薄膜上，得到图形下底的宽度为0.5--3μm、间距0.5--3μm的凸起，凸起厚度为1埃---999埃；

(4)、清洗蓝宝石，去除残留的光阻。

2.根据权利要求1所述的蓝宝石图形衬底的制作方法，其特征在于：所述的薄膜为二氧化硅、氮化硅、氮氧化硅或者二氧化钛等材料中的一种。

3.根据权利要求1所述的蓝宝石图形衬底的制作方法，其特征在于：所述的薄膜折射率小于2.5。

4.根据权利要求1所述的蓝宝石图形衬底的制作方法，其特征在于：所述的图形为近似的半球形、圆锥形或圆台形或多边体形。

5.根据权利要求1所述的蓝宝石图形衬底的制作方法，其特征在于：所述步骤(1)的薄膜制备方法为PECVD、电子束蒸发、溅射或溶胶凝胶中的一种。

6.根据权利要求1所述的蓝宝石图形衬底的制作方法，其特征在于：所述的步骤(2)在薄膜上制备图像的方法为匀胶、光刻、显影、热板烘烤制作刻蚀掩膜。

7.根据权利要求1所述的蓝宝石图形衬底的制作方法，其特征在于：所述的步骤(3)通过干法刻蚀或湿法腐蚀图形。