[发明专利]EL装置、用于形成导电膜的感光材料和导电膜无效
申请号: | 201010143767.1 | 申请日: | 2010-03-29 |
公开(公告)号: | CN101853611A | 公开(公告)日: | 2010-10-06 |
发明(设计)人: | 德永司 | 申请(专利权)人: | 富士胶片株式会社 |
主分类号: | G09F9/33 | 分类号: | G09F9/33;G03F7/075;H01B5/14 |
代理公司: | 永新专利商标代理有限公司 72002 | 代理人: | 柴丽敏;于辉 |
地址: | 日本*** | 国省代码: | 日本;JP |
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摘要: | |||
搜索关键词: | el 装置 用于 形成 导电 感光材料 | ||
1.一种EL装置,其包含:
支持体,
带有网状图案的导电层,
荧光体层,
反射绝缘层,和
背电极;
其中所述导电层、所述荧光体层、所述反射绝缘层和所述背电极依序设置在所述支持体上,和
其中所述导电层的网状图案的开口部的宽度X(μm)和所述导电层的网状图案的开口部的表面电阻率Y(Ω/□)满足下式(a)和(b):
(a)50≤X≤7000
(b)105≤Y≤(5×1023)×X-4.02。
2.如权利要求1所述的EL装置,其中所述导电层的网状图案的开口部的宽度X为100~5000μm。
3.如权利要求1所述的EL装置,其中所述导电层的网状图案的开口部的表面电阻率Y为106~1015Ω/□。
4.如权利要求1~3中任一项所述的EL装置,其中所述导电层的网状图案的开口部含有导电微粒。
5.如权利要求4所述的EL装置,其中所述导电微粒是掺锑的氧化锡。
6.如权利要求4所述的EL装置,其中所述导电层的网状图案的开口部含有质量比为1/33~5/1的导电微粒和粘结剂。
7.如权利要求6所述的EL装置,其中所述导电层的网状图案的开口部含有质量比为1/3~5/1的导电微粒和粘结剂。
8.一种导电膜,其包含:
支持体,和
设置在所述支持体上的带有网状图案的导电层;
其中所述导电层的网状图案的开口部的宽度X(μm)和所述导电层的网
状图案的开口部的表面电阻率Y(Ω/□)满足下式(a)和(b):
(a)50≤X≤7000
(b)105≤Y≤(5×1023)×X-4.02。
9.一种用于形成导电膜的感光材料,其包含:
支持体,和
在所述支持体上的含有银盐的乳剂层;
其中所述含有银盐的乳剂层和位于含有银盐的乳剂层侧上的任何其他层中的至少一个含有导电微粒和粘结剂,和
其中所述含有导电微粒和粘结剂的层中的粘结剂含量为0.05~0.5g/m2。
10.如权利要求9所述的用于形成导电膜的感光材料,其中所述粘结剂的含量为0.05~0.2g/m2。
11.如权利要求9所述的用于形成导电膜的感光材料,其中所述导电微粒的含量为0.05~1g/m2。
12.如权利要求11所述的用于形成导电膜的感光材料,其中所述导电微粒的含量为0.1~0.5g/m2。
13.如权利要求9~12中任一项所述的用于形成导电膜的感光材料,其中在所述含有银盐的乳剂层和位于所述含有银盐的乳剂层侧上的任何其他层中的至少一个中含有含量为0.05~0.5g/m2的胶体二氧化硅。
14.一种导电膜,其包含通过使如权利要求9~12中任一项所述的用于形成导电膜的感光材料进行图案曝光和显影处理而形成的导电部。
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