[发明专利]一种将GDSⅡ文件转换为无掩模光刻机曝光数据的方法无效
申请号: | 201010143778.X | 申请日: | 2010-04-07 |
公开(公告)号: | CN101826127A | 公开(公告)日: | 2010-09-08 |
发明(设计)人: | 蒋兴华;李辉;李显杰 | 申请(专利权)人: | 芯硕半导体(中国)有限公司 |
主分类号: | G06F17/50 | 分类号: | G06F17/50 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230601 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 gds 文件 转换 无掩模 光刻 曝光 数据 方法 | ||
1.一种将GDSII文件转换为无掩模光刻机曝光数据的方法,其特征在于:
包括以下步骤:
(1)在计算机中,将待曝光的GDSII文件原图转换为只包含多个多边形的 矢量图形,并以任意点为原点建立二维坐标系;
(2)将步骤(1)得到的矢量图形分别按水平和竖直方向分割为多个面积相 等的曝光区域;
(3)采用四叉图形搜索树,将所述矢量图形中的所有多边形分别划分到其 所在的曝光区域中;
(4)采用四叉树图形分割法,将每个曝光区域中的多边形分别分解为矩形, 分解得到的矩形的长度是x方向分辨率降低系数的整数倍,分解得到的矩形的宽 度是y方向分辨率降低系数的整数倍;
所述分辨率降低系数由无掩模光刻机设定的曝光精度和无掩模光刻机中空 间图形发生器所能曝光的最小尺寸决定;
所述x方向的分辨率降低系数为:无掩模光刻机中空间图形发生器在x方向 所能曝光的最小尺寸除以无掩模光刻机设定的x方向的曝光精度,其余数向上取 整;
所述y方向的分辨率降低系数为:无掩模光刻机中空间图形发生器在y方向 所能曝光的最小尺寸除以无掩模光刻机设定的y方向的曝光精度,其余数向上取 整;
(5)将每个曝光区域中的矩形按照x方向偏移量和y方向偏移量进行分组, x方向偏移量和y方向偏移量均相同的矩形分为一个组;
x方向偏移量=矩形左上角的x坐标%x方向分辨率降低系数,
y方向偏移量=矩形左上角的y坐标%y方向分辨率降低系数,
式中%表示求余数运算;
(6)在计算机中,将步骤(5)中每个曝光区域中划分后的多组矩形,分别 转换为无掩模光刻机适用的低分辨率位图文件。
2.根据权利要求1所述的一种将GDSII文件转换为无掩模光刻机曝光数据 的方法,其特征在于:所述步骤(4)中,分解得到的矩形通过合并可复原成原 多边形,复原后的多边形无精度损失;所述分解得到的矩形中,采用消除锯齿法, 将位于边界的矩形进行重叠后再次分解,二次分解得到的矩形在多边形边缘处有 重叠。
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