[发明专利]一种采用曝光方式标定曝光能量需求分布的方法无效
申请号: | 201010143798.7 | 申请日: | 2010-04-07 |
公开(公告)号: | CN101813893A | 公开(公告)日: | 2010-08-25 |
发明(设计)人: | 孙金阳;李显杰;庞微 | 申请(专利权)人: | 芯硕半导体(中国)有限公司 |
主分类号: | G03F7/20 | 分类号: | G03F7/20 |
代理公司: | 安徽合肥华信知识产权代理有限公司 34112 | 代理人: | 余成俊 |
地址: | 230601 安徽省合*** | 国省代码: | 安徽;34 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 采用 曝光 方式 标定 能量 需求 分布 方法 | ||
1.一种采用曝光方式标定曝光能量需求分布的方法,采用空间光调制器作 为图形发生器,光源发出的光照射至空间光调制器,被空间光调制器反射,产生 反射光,所述反射光通过远心投影成像系统,入射至表面覆有光刻胶并放置在平 台上的基底上,其特征在于:打开空间光调制器中需要使用的多个区域,光源发 出的光照射至空间光调制器上,被空间光调制器中所述多个区域反射至所述基 底,移动平台,同时控制光源,使空间光调制器中所述多个区域的反射光的能量 强度均匀变化,能量强度均匀变化的反射光入射至所述基底,并在所述基底上进 行曝光形成多个与空间光调制器中的区域一一对应的打开区域,通过CCD相机对 基底上曝光得到的多个打开区域进行拍摄,并将拍摄到的图像传送至计算机中处 理;在计算机中利用图像处理软件,将基底上相邻能量强度各自对应的打开区域 的图像进行相减运算,得到在相邻能量强度之间的区间段内刚好被曝光形成的打 开区域,将所述打开区域再与空间光调制器中的区域对照,确定空间调制器中多 个区域分别各自对应的能量强度区间,完成标定空间光调制器所使用的区域达到 曝光指标的能量值。
2.根据权利要求1所述的一种采用曝光方式标定曝光能量需求分布的方法, 其特征在于:通过调整光源的能量强度,使光源照射至空间光调制器的入射光的 能量强度按固定的时间间隔等比递增或递减,得到能量强度均匀变化的空间光调 制器中的区域的反射光;或者保持光源能量强度不变,通过等比调整光源工作的 时间,使光源工作的时间等比例递增或等比例递减,得到能量强度均匀变化的空 间光调制器中的区域的反射光。
3.根据权利要求1所述的一种采用曝光方式标定曝光能量需求分布的方法, 其特征在于:所述的空间光调制器为一块空间光调制器,或者是由多块空间光调 制器拼接而成的。
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