[发明专利]感光性组合物、感光性膜及永久图形形成方法

说明书

技术领域

本发明涉及使用至少两种敏化剂的感光性组合物、感光性膜及永久图形形成方法。

背景技术

随着电子设备的小型化、多功能化，目前印刷线路板向更高密度化的方向进展。例如，可以举出导体电路的细线化、高多层化、包含盲孔、埋孔(buried hole)等内部通孔(interstitial via hole)的通孔的小径化、小型芯片部件的表面安装的高密度安装等。

作为这样的印刷线路板中使用的阻焊剂，追求高灵敏度化，提出了各种曝光相关技术及高灵敏度阻焊剂。

例如，本申请人提出了包含对405nm半导体激光具有高灵敏度的光聚合引发剂的感光性组合物(参考日本特开2007-316451号公报)。

另外，提出了曝光前的干燥涂膜的厚度为约25μm、在355～405nm的波长范围处的吸光度的最大值与最小值之差为0.3以内的感光性组合物(参考日本特开2008-146043号公报)。

另外，提出了曝光前的干燥涂膜的厚度为约25μm、在355～375nm的波长范围处示出0.6～1.2的吸光度、并且在405nm的波长处示出0.3～0.6的吸光度的感光性组合物(参考日本特开2008-146044号公报)。

另外，还提出了对干燥涂膜照射第一激光、和波长与该第一激光不同的第二激光的阻焊膜的形成方法(参考日本特开2008-146045号公报)。

但是，在使用在i线(365nm)及h线(405nm)处具有辉线的混合光源进行曝光的情况下，这些现有的感光性组合物中，存在光的利用效率不充分、并且灵敏度低、难以得到所需的图形形状的问题。

即，由于就感光性组合物中所含的光聚合引发剂而言，具有聚合引发能力的光的波长区域限定在一定的范围内，因此，如果使用具有i线(365nm)及h线(405nm)的辉线的光源进行曝光，则存在不能充分地利用各辉线的光、灵敏度低、难以得到所需图形的问题。

另外，根据光聚合引发剂的不同，有时会由于光聚合引发剂本身吸收具有聚合引发能力的波长的光以外的光而使含有该光聚合引发剂的聚合引发体系整体的灵敏度下降，此时，存在需要提高所述吸收的光的灵敏度的问题。

另外，由感光性组合物形成的感光性膜，需要具有高保存性。

发明内容

本发明的课题在于，解决现有的所述各种问题，并实现以下目的。即，本发明的目的在于，提供改善光的利用效率、i线及h线的灵敏度高、图形形状良好且保存性也良好的感光性组合物，含有该感光性组合物的感光性膜，及使用了该感光性组合物的永久图形形成方法。

用于解决所述课题的手段如下所述。即，

<1>一种感光性组合物，其特征在于，所述感光性组合物分别含有至少一种光聚合引发剂、至少一种下述第一敏化剂、和至少一种下述第二敏化剂，

所述第一敏化剂在设对365nm的波长的光的摩尔吸光系数为ε_365nm、对405nm的波长的光的摩尔吸光系数为ε_405nm时，满足下式：ε_365nm/ε_405nm＞7的关系式；

所述第二敏化剂满足下式：ε_405nm/ε_365nm＞7的关系式。

<2>如上述<1>所述的感光性组合物，其中，光聚合引发剂含有对365nm～405nm的波长区域的光的摩尔吸光系数小于400的肟酯化合物。

<3>如上述<1>至<2>中任一项所述的感光性组合物，其中，第一敏化剂为下述通式(I)表示的化合物，

其中，所述通式(I)中，X表示O、S或NR(其中，R表示氢原子、烷基及酰基的任意一种)。n表示0或1的整数。R¹、R²、R³、R⁴、R⁵、R⁶、R⁷及R⁸各自独立地表示氢原子或中性的一价取代基。另外，R¹、R²、R³及R⁴中各自相邻的两个可以相互连结而形成环。R⁵或R⁶、与R⁷或R⁸，可以相互连结而形成脂肪环，但不形成芳香环。