[发明专利]电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置

权利要求书

1.一种电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置，它包括：靶架(7)、工作气体气源(1)、反应气体气源、相对地设置在所述的靶架(7)上并均沿着纵向延伸的第一靶材(81)和第二靶材(82)，所述的第一靶材(81)和第二靶材(82)分别与负极电源(14)电连接，其特征在于：所述的第一靶材(81)和第二靶材(82)相对的两个侧壁面分别向内凹陷形成溅射表面(21)，且一对溅射表面(21)之间形成靶腔(11)；所述的工作气体气源(1)和反应气体气源分别位于所述的靶腔(11)的入口(17)侧和出口(18)侧，在垂直于所述纵向的横向截面上，一对所述的溅射表面(21)之间的最小距离位于所述的靶腔(11)的出口处。

2.根据权利要求1所述的电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置，其特征在于：在所述的阴极装置的横截面上，所述的溅射表面(21)的投影为曲线。

3.根据权利要求2所述的电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置，其特征在于：在所述的阴极装置的横截面上，所述的溅射表面(21)的投影为圆弧线。

4.根据权利要求3所述的电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置，其特征在于：所述的第一靶材(81)和第二靶材(82)的横截面均呈扇环形。

5.根据权利要求2所述的电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置，其特征在于：所述的溅射表面(21)在所述的阴极装置的横截面上的投影所形成的曲线的曲率为K，0＜K＜1/50米^-1。

6.根据权利要求1或2或3所述的电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置，其特征在于：一对所述的溅射表面(21)之间的最大距离为20mm～100mm。

7.根据权利要求2所述的电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置，其特征在于：在所述的阴极装置的横截面上，所述的溅射表面(21)的投影为抛物线。

8.根据权利要求1所述的电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置，其特征在于：所述的工作气体气源包括：工作气体管路(3)、用于使工作气体沿切线方向进入所述的靶腔(11)的导流气罩(2)，所述的导流气罩(2)罩在所述的工作气体管路(3)的外侧，所述的导流气罩(2)上具有朝向所述的靶腔(11)的开口(6)，所述的工作气体管路(3)在远离所述的开口(6)的一侧开设有多个气孔(4)，所述的工作气体管路(3)与所述的导流气罩(2)之间形成导流通道(5)。

9.根据权利要求1或4所述的电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置，其特征在于：所述的第一靶材(81)和第二靶材(82)还分别包括与所述的靶架(7)相连接的结合面(19)以及连接所述的结合面(19)和所述的溅射表面(21)的侧端面(20)；自所述的靶腔(11)的出口(18)处向外，所述的第一靶材(81)的侧端面和所述的第二靶材(82)的侧端面(20)之间的距离逐渐增大形成一喇叭口，所述的反应气体气源位于所述的喇叭口的外侧。

10.根据权利要求9所述的电场约束等离子体线性反应溅射镀膜阴极装置，其特征在于：所述的反应气体气源包括一对分别设置在所述的靶架(7)上的反应气体管路(9)，一对所述的反应气体管路(9)上均开设有出气孔(10)，且一对所述的反应气体管路(9)上的出气孔(10)相对设置。