[发明专利]基板升降移送装置及基板处理移送系统

说明书

技术领域

本发明涉及在清洁输送(Clean Material Handling)等领域使用的基板升降移送装置及基板处理移送系统。

背景技术

在清洁输送的领域中使用如下的基板升降移送装置：在配置于下层底板的第一基板处理装置和配置于上层底板的第二基板处理装置之间，进行玻璃基板等基板的升降移送。一般的基板升降移送装置的结构等如下所述。

即、在第一基板处理装置的附近，设置有沿上下方向延伸的升降导向部，在该升降导向部以能够升降的方式设置有用于支承基板的升降工作台。另外，在升降导向部的适当位置，设置有使升降工作台升降的升降用马达。这里，升降工作台能够以与第一基板处理装置对应的高度相对第一基板处理装置将基板引出及送出。另外，升降工作台能够以与第二基板处理装置对应的高度相对第二基板处理装置将基板引出及送出。

因此，通过升降用马达的驱动使升降体下降，使升降体位于与第一基板处理装置对应的高度。其次，基板从第一基板处理装置被引出到升降工作台。而且，通过升降用马达的驱动使升降体上升，使升降体位于与第二基板处理装置对应的高度。而且，基板从升降工作台被送出到第二基板处理装置。

这样，从第一基板处理装置向第二基板处理装置进行基板的升降移送。另外，通过使基板升降移送装置进行与前述动作相反的动作，而从所述第二基板处理装置向所述第一基板处理装置进行基板的升降移送。

此外，作为与本发明关联的现有技术，有下述专利文献1公开的技术。

专利文献1：日本国特开平1-318247号公报

但是，在上述一般的基板升降移送装置中，由于支承基板的升降工作台以能够升降的方式设置在升降导向部，所以使基板保持成倒伏(水平)姿势进行升降。由此，作为基板升降移送装置的占有平面面积(设置平面面积)，至少一需要张基板的量的平面面积以上。因此，基板升降移送装置的占有平面面积增大，工厂内空间的有效利用变得困难。尤其，近年，基板的大型化急速发展，该问题变得更加显著。

发明内容

本发明的目的是提供一种能够解决前述问题的、新结构的基板升降移送装置及基板处理移送系统。

本发明的基板升降移送装置，在配置于下层且进行对基板的处理的第一基板处理装置、和配置在上层且进行对基板的处理的第二基板处理装置之间，进行基板的升降移送，具备：第一姿势切换部件，以能够绕水平的轴心摇动的方式设置在所述第一基板处理装置的一侧，并具有保持基板的第一姿势切换用保持构件，将基板的姿势在倒伏姿势和立起姿势间进行切换；第一姿势切换用驱动器，使所述第一姿势切换部件摇动；第二姿势切换部件，以能够绕水平的轴心摇动的方式设置在所述第二基板处理装置的一侧，并具有保持基板的第二姿势切换用保持构件，将基板的姿势在倒伏姿势和立起姿势间进行切换；第二姿势切换用驱动器，使所述第二姿势切换部件摇动；环状部件，以能够循环行走的方式设置在竖立设于所述第一姿势切换部件的一侧的支承框架上，并沿上下方向延伸；行走用驱动器，使所述环状部件循环行走；多个升降用保持构件，在圆周方向上隔开间隔地设置在所述环状部件上，并保持立起姿势的基板。

此外，这里，所谓“设置”是除了直接地设置之外，还包含通过中介部件间接地设置的情况。同样地，所谓“配置”是除了直接地配置之外，还包含通过中介部件间接地配置的情况。另外，所谓“基板的处理”包含基板的输送处理、基板的程序处理、基板的保管处理等，在程序处理过程中包含蚀刻处理、CVD处理、PVD处理等。

根据本发明的基板升降移送装置，位于所述第一基板处理装置的规定位置的基板被所述第一姿势切换用保持构件保持。其次，所述第一姿势切换用驱动器被驱动来使所述第一姿势切换部件摇动，基板的姿势从倒伏姿势向立起姿势被切换。而且，立起姿势的基板被位于与所述第一基板处理装置对应的高度的所述升降用保持构件保持，并解除所述第一姿势切换用保持构件的保持状态。而且，所述行走驱动器被驱动并使所述环状部件向一方向循环行走，保持立起姿势地使基板上升。通过重复前述的动作，多个基板从所述第一基板处理装置向所述基板升降移送装置被送出。

保持基板的所述升降用保持构件位于与所述第二基板处理装置对应的高度之后，由所述第二姿势切换用保持构件保持基板，所述升降用保持构件的保持状态被解除。而且，使所述第二姿势切换用驱动器驱动而使所述第二姿势切换部件摇动，基板的姿势从立起姿势向倒伏姿势被切换，所述第二姿势切换用保持构件的保持状态被解除。通过重复前述的动作，多个基板从所述基板升降移送装置向所述第二基板处理装置被送出。