[发明专利]一种利用强脉冲离子束制备具有连续过渡层的镀层的方法

权利要求书

1.一种利用强脉冲离子束制备具有连续过渡层的镀层的方法，其特征在于，按照下述步骤进行：

(1)对基底材料进行打磨、抛光、超声清洗；

(2)利用磁控溅射法在基底材料上沉积镀层材料；

(3)利用强脉冲离子束的一个脉冲辐照步骤(2)制备的样品，所述辐照工艺参数为：强脉冲离子束的束流中含有数量百分比70％的质子和数量百分比30％的碳离子，加速电压脉冲为300-350kv，脉冲电流密度为30-50A/cm²，离子束能量为0.7-0.8J/cm²，一个脉冲的离子流为1×10¹³-2×10¹³个/厘米²，脉冲宽度为50-70ns；

所述的基底材料为金属镍或者金属铜；所述的镀层材料为金属铝或者铝硅合金。

2.根据权利要求1所述的一种利用强脉冲离子束制备具有连续过渡层的镀层的方法，其特征在于，利用强脉冲离子束辐照加工的工艺参数为：强脉冲离子束的束流中含有数量百分比70％的质子和数量百分比30％的碳离子，加速电压脉冲为320-350kv，脉冲电流密度为40-50A/cm²，离子束能量为0.8J/cm²，一个脉冲的离子流为2×10¹³个/厘米²，脉冲宽度为60-70ns。

3.根据权利要求1所述的一种利用强脉冲离子束制备具有连续过渡层的镀层的方法，其特征在于，所述的基底材料为金属镍；所述的镀层材料为铝硅合金，其中铝的质量百分比为93％-97％，硅的质量百分比为3％-7％。

4.根据权利要求1所述的一种利用强脉冲离子束制备具有连续过渡层的镀层的方法，其特征在于，所述的基底材料为金属镍；所述的镀层材料为铝硅合金，其中铝的质量百分比为60％，硅的质量百分比为40％；利用强脉冲离子束辐照加工的工艺参数为：强脉冲离子束的束流中含有数量百分比70％的质子与数量百分比30％的碳离子，加速电压脉冲为300kV，脉冲电流密度为50A/cm²，离子束能量为0.8J/cm²，一个脉冲的离子流为2×10¹³个/厘米²，脉冲宽度为50ns。

5.根据权利要求1所述的一种利用强脉冲离子束制备具有连续过渡层的镀层的方法，其特征在于，所述的基底材料为金属镍；所述的镀层材料为铝硅合金，其中铝的质量百分比为93％，硅的质量百分比为7％；利用强脉冲离子束辐照加的工艺参数为：强脉冲离子束的束流中含有数量百分比70％的质子和数量百分比30％的碳离子，加速电压脉冲为350kV，脉冲电流密度为40A/cm²，离子束能量为0.8J/cm²，一个脉冲的离子流为2×10¹³个/厘米²，脉冲宽度为70ns。