[发明专利]液晶取向剂、液晶显示元件、聚酰亚胺以及化合物有效
申请号: | 201010151643.8 | 申请日: | 2010-04-06 |
公开(公告)号: | CN101857804A | 公开(公告)日: | 2010-10-13 |
发明(设计)人: | 秋池利之 | 申请(专利权)人: | JSR株式会社 |
主分类号: | C09K19/56 | 分类号: | C09K19/56;C07D493/10;C08L79/08;C08G73/10;G02F1/1337 |
代理公司: | 北京三幸商标专利事务所 11216 | 代理人: | 刘激扬 |
地址: | 日本国*** | 国省代码: | 日本;JP |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 液晶 取向 液晶显示 元件 聚酰亚胺 以及 化合物 | ||
技术领域
本发明涉及一种液晶取向剂、液晶显示元件、聚酰亚胺以及化合物。更具体而言,本发明涉及一种可以形成液晶取向性和耐热性优良的液晶取向膜,并且印刷性也优良的液晶取向剂,以及一种长期具有显示品质优良的可靠性的液晶显示元件。
背景技术
迄今,作为液晶显示元件,已知一种具有所谓TN型(扭曲向列)液晶盒的TN型液晶显示元件,其是在设置了透明导电膜的基板表面上形成液晶取向膜,作为液晶显示元件用基板,再将2块该基板相对配置,并在其间隙内形成具有正的介电各向异性的向列液晶的层,形成夹层结构的盒,并且液晶分子的长轴从一块基板向另一块基板连续地扭转90°(专利文献1)。此外,还开发了与TN型液晶显示元件相比能够实现更高对比度的STN(超扭曲向列)型液晶显示元件、视角依赖性小的IPS(面内切换)型液晶显示元件、视角依赖性小同时视频画面高速响应性优良的光学补偿弯曲(OCB)型液晶显示元件和采用具有负介电各向异性的向列型液晶的VA(垂直取向)型液晶显示元件等(专利文献2~5)。
作为这些液晶显示元件中液晶取向膜的材料,迄今已知有聚酰亚胺、聚酰胺和聚酯等,特别是聚酰亚胺,其耐热性、与液晶的亲和性、机械强度等优良,因此用于许多液晶显示元件中(专利文献6)。
然而近年来,液晶显示元件的适用范围不断扩大,特别是,液晶电视的普及不断发展。在液晶电视的用途中,对应于近来动态画面的精细化以及动态画面固定技术的进步,可以使用高速响应性液晶。然而,在长时间(例如,1000小时以上)连续驱动使用高速响应性液晶的液晶显示元件时,存在有显示元件的明暗对比度下降的问题。这种缺陷,认为是由于长时间驱动所产生的热应力导致液晶取向膜热劣化,因此液晶的电压保持率下降所造成的。因此,需要一种即使在长时间驱动液晶显示元件时,也显示出稳定的电压保持率,并且耐热性优良的液晶取向膜,然而,形成这种液晶取向膜的液晶取向剂尚未可知。
进一步,为了有效利用液晶取向剂,希望尝试减少印刷时所用液晶取向剂的液量,以及一种即使以很少的液量,也能显示出优良印刷性的液晶取向剂。
【专利文献】
【专利文献1】日本特开平4-153622号公报
【专利文献2】日本特开昭60-107020号公报
【专利文献3】日本特开昭56-91277号公报
【专利文献4】美国专利第5928733号说明书
【专利文献5】日本特开平11-258605号公报
【专利文献6】日本特开昭62-165628号公报
发明内容
本发明是鉴于上述情况而作出的,其目的是提供一种即使在采用很少液量时,也可以显示出优良的印刷性,并且能够形成液晶取向性和长期耐热性优良的液晶取向膜的液晶取向剂。
本发明的另一目的是提供一种长期具有显示品质优良的可靠性的液晶显示元件。
本发明的其它目的和优点,可由以下的说明获悉。
根据本发明,本发明的上述目的和优点,第一,由一种液晶取向剂达成,其含有选自聚酰胺酸和使该聚酰胺酸脱水闭环所得的聚酰亚胺构成的群组中的至少一种聚合物,该聚酰胺酸是通过使包含下述式(1)所表示的化合物的四羧酸二酐与二胺反应而得到的。
本发明的上述目的和优点,第二,由一种具有由上述液晶取向剂所形成的液晶取向膜的液晶显示元件达成。
本发明的液晶取向剂,可以形成液晶取向性和耐热性优良的液晶取向膜,并且印刷性也优良。具有这种由本发明的液晶取向剂所形成的液晶取向膜的本发明的液晶显示元件,长期具有显示品质优良的可靠性。
本发明的液晶取向剂,可以优选适用于TN型、STN型、IPS型、VA型、PSA(Polymer Sustained Alignment,聚合物稳定配向)型等各种液晶显示元件。
具体实施方式
本发明的液晶取向剂,含有选自聚酰胺酸和使该聚酰胺酸脱水闭环所得的聚酰亚胺构成的群组中的至少一种聚合物,该聚酰胺酸是通过使包含上述式(1)所表示的化合物的四羧酸二酐与二胺反应而得到的。
<聚酰胺酸>
本发明的聚酰胺酸,可以通过使包含上述式(1)所表示的化合物的四羧酸二酐与二胺反应而合成。
<四羧酸二酐>
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于JSR株式会社,未经JSR株式会社许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010151643.8/2.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种移动终端的网页显示方法
- 下一篇:合成吗啉代低聚物的方法