[发明专利]位置侦测的装置及方法

权利要求书

1.一种位置侦测的装置，其特征在于包括：

一感应器，包括多数条导电条相迭构成的多数个相迭区，其中相迭于任一相迭区的一对导电条因电性接触形成一接触点时构成一被压触相迭区；

一驱动器，分别提供一高电位与一低电位；

一侦测器，侦侧至少一导电条的一讯号；

一选择器，操作性耦合该些导电条于该驱动器与该侦测器；以及

一控制器，藉由控制该驱动器、该侦测器与该选择器进行至少以下作业：

判断压触在该些相迭区上的每一个压触；以及

判断每一个压触的一总接触阻抗，其中跨相迭区的压触的该总接触阻抗为该跨相迭区的压触的所有相迭区的一接触阻抗的并联阻抗。

2.如权利要求1所述的位置侦测的装置，其特征在于该控制器更包括依据每一压触的该总接触阻抗追踪每一压触的后续压触，其中每一压触与每一后续压触的该总接触阻抗的差在一预设范围内，并且相应于相同压触的该被压触相迭区为相邻的相迭区。

3.如权利要求1所述的位置侦测的装置，其特征在于该控制器更包括判断每一个被压触相迭区的该接触阻抗，该接触阻抗是依据该被压触相迭区的该对导电条之一与另一在该接触点的电位与该接触点的位置来判断。

4.如权利要求3所述的位置侦测的装置，其特征在于该控制器对于该接触阻抗的判断包括：

判断该接触点的一第一维度位置与一第二维度位置，并且依据该第一维度位置与该第二维度位置判断出一第一维度阻抗与一第二维度阻抗；

在该对导电条之一与另一分别被提供该高电位与该低电位时侦测该接触点在该对导电条上之一与另一的一第一接触电位与一第二接触电位；以及

判断出该接触阻抗，其中该接触阻抗为(R1+R2)/(((VH-VL)/(P1-P2))-1)，其中R1、R2、VH、VL、P1、P2分别为该第一维度阻抗、该第二维度阻抗、该高电位、该低电位、该第一接触电位与该第二接触电位。

5.如权利要求1所述的位置侦测的装置，其特征在于该控制器更包括判断每一个被压触相迭区的该接触阻抗，该接触阻抗是依据该被压触相迭区的该对导电条之一与另一在该接触点的电位与该被压触相迭区的位置来判断。

6.如权利要求5所述的位置侦测的装置，其特征在于该控制器对于该接触阻抗的判断包括：

依据该被压触相迭区的位置判断出一第一维度阻抗与一第二维度阻抗；

在该对导电条之一与另一分别被提供该高电位与该低电位时侦测该接触点在该对导电条上之一与另一的一第一接触电位与一第二接触电位；以及

判断出该接触阻抗，其中该接触阻抗为(R1+R2)/(((VH-VL)/(P1-P2))-1)，其中R1、R2、VH、VL、P1、P2分别为该第一维度阻抗、该第二维度阻抗、该高电位、该低电位、第一接触电位、第二接触电位。

7.如权利要求1所述的位置侦测的装置，其特征在于该控制器更包括：

判断该些压触中被排除的压触，其中任一被排除的压触至少满足下列条件之一：

该总接触阻抗小于一门坎限值；以及

相应于相同压触的该接触点中存在至少一接触点的位置落在相应的该相迭区的一误差范围之外；以及

判断该些压触中每一未被排除的压触的位置，其中每一压触的位置是依据相应于相同压触的该被压触相迭区的该接触点的位置来判断。

8.如权利要求1所述的位置侦测的装置，其特征在于该控制器对于该被压触相迭区的该接触点的判断包括：

轮流选择该对导电条之一与另一分别作为一被驱动导电条与一被侦测导电条；

在提供一高电位与一低电位于该被驱动导电条两端时侦测该被侦测导电条的电位作为一位置电位；

电性耦合一延伸电阻与该被驱动导电条以构成一延伸导电条；

在该延伸导电条未被压触时提供该高电位与该低电位于该延伸导电条以侦测该延伸电阻与该被驱动导电条间的电位作为一未压触电位；

在该延伸导电条被压触时提供该高电位与该低电位于该延伸导电条以侦测该延伸电阻与该被驱动导电条间的电位作为一被压触电位；以及

依据该位置电位、该被驱动导电条的该未压触电位与该被压触电位判断该接触点在该被驱动导电条的位置。