[发明专利]靶材基座及采用该靶材基座的镀膜装置

权利要求书

1.一种靶材基座，用于一镀膜装置，该靶材基座包括：

基台，固定在该镀膜装置内；

旋转载台，设置在基台上且能够相对该基台旋转；

多个靶座，环设在该旋转载台周围，每个靶座面向该旋转载台的一面开设有一收纳空间；以及

多个靶材部件，其分别通过一旋转轴对应设置在多个靶座上，所述旋转轴与一旋转马达连接且均收容在收纳空间内，所述旋转马达用于控制该旋转轴带动该靶材部件收容在收纳空间内或从收纳空间中伸出。

2.如权利要求1所述的靶材基座，其特征在于，该旋转载台上设置有自转载台，该自转载台用于放置待镀元件，当旋转载台转动时，自转载台相对旋转载台自转。

3.如权利要求1所述的靶材基座，其特征在于，所述旋转载台的面积小于基台的面积，所述靶座设置在基台宽于旋转载台的表面位置。

4.如权利要求1所述的靶材基座，其特征在于，所述收纳空间相对的两侧壁上开设有轴孔，所述旋转轴的端部以及所述旋转马达收容在该轴孔内。

5.如权利要求1所述的靶材基座，其特征在于，所述靶材部件包括靶材以及靶材基板，靶材固定在所述靶材基板上，当靶材部件从收纳空间中伸出时，靶材面向所述旋转载台。

6.如权利要求1所述的靶材基座，其特征在于，所述旋转马达与一控制装置连接，该控制装置设置在镀膜装置外，该控制装置用于供用户在镀膜开始时控制至少一个靶材从该收纳空间内伸出，以及在镀膜结束后控制该靶材收容在该收纳空间内。

7.如权利要求6所述的靶材基座，其特征在于，所述控制装置上设置有多个操作开关，每个操作开关对应控制一个旋转马达的旋转方向以及开闭，用于供用户分别操作该操作开关控制相应靶材的状态。

8.一种镀膜装置，其包括：

屏蔽罩，其内形成有一真空腔体；以及

靶材基座，其设置在该真空腔体内，其特征在于，该靶材基座包括：

基台，固定在该真空腔体内；

旋转载台，设置在基台上且能够相对该基台旋转；

多个靶座，环设在该旋转载台周围，每个靶座面向该旋转载台的一面开设有一收纳空间；以及

多个靶材部件，其分别通过一旋转轴对应设置在多个靶座上，所述旋转轴与一旋转马达连接且均收容在收纳空间内，所述旋转马达用于控制该旋转轴带动该靶材部件收容在收纳空间内或从收纳空间中伸出。

9.如权利要求8所述的镀膜装置，其特征在于，所述收纳空间相对的两侧壁上开设有轴孔，所述旋转轴两端以及所述旋转马达收容在该轴孔内。

10.如权利要求8所述的镀膜装置，其特征在于，所述旋转马达与一控制装置连接，该控制装置设置在镀膜装置外，该控制装置用于供用户在镀膜开始时控制至少一个靶材打开，以及在镀膜结束后控制该靶材收容在该收纳空间内。