[发明专利]感光性树脂组合物和固化膜以及隔壁

说明书

技术领域

本发明涉及感光性碱水溶液显影型的树脂组合物、和使用其而形成的固化膜、以及隔壁，特别是涉及适合在基板上形成微细隔壁的黑色抗蚀剂用的感光性树脂组合物、以及由其形成的隔壁。

背景技术

滤色器通常是在玻璃、塑料片等透明基板的表面形成黑色的矩阵(黑色矩阵)，接着顺次以条纹状或马赛克状等颜色图案形成红、绿、蓝等3种以上的不同色相。图案尺寸因滤色器的用途以及各自的颜色而不同，但通常为5～700μm左右。另外，重叠的位置精度为数μm～数十μm，利用尺寸精度高的微细加工技术来制造。

作为滤色器的代表性制造方法，有染色法、印刷法、颜料分散法、电沉积法等。其中，特别是通过将含有颜色材料的光聚合性组合物涂布在透明基板上反复进行图像曝光、显影、根据需要的固化而形成滤色器图像的颜料分散法，可以得到滤色器像素的位置、膜厚等的精度高、耐光性·耐热性等耐久性出色、且针孔等缺陷少的滤色器，所以被广泛采用。

其中，黑色矩阵通常是在红、绿、蓝的颜色图案之间配置成格子状、条纹状或马赛克状，具有防止由各种颜色之间的混色抑制所致的对比度提高或由漏光所致的TFT的故障的作用。为此，要求黑色矩阵具有高遮光性。以往，通常采用由铬等的金属膜形成黑色矩阵的方法。该方法是在透明基板上蒸镀铬等金属并经过光刻工序对铬层实施蚀刻处理的方法，所以能以高精度得到较薄的膜厚且获得高遮光性。相反，是制造工序长且生产率低的方法，存在成本高、产生由蚀刻处理的废液等所致的环境问题等问题。

因此，作为解决这些问题的对策，专利文献1提出了使用感光性树脂的光刻法。但是，关于由该方法得到的树脂遮光膜，为了体现出与铬等的金属膜所致的黑色矩阵同等的遮光性(光学浓度)，有必要增加遮光性的颜料等的含量，但当像树脂黑色矩阵那样在光的全波长区域要求遮光能力时，在照射紫外线进行光固化的过程中，遮光性的颜料吸收紫外线，所以在如下方面存在问题：1)即便在被曝光的部分也会产生相对膜厚方向的交联密度的差，即便在涂膜表面充分进行光固化，也难以在基底面进行光固化；2)对曝光部分和未曝光部分赋予交联密度差是非常困难的；3)因为配合大量不溶于显影液的遮光性颜料而使显影性显著降低等所谓黑色抗蚀剂的光敏度、清晰度、密合性、显影性、边缘形状的清楚度等方面。

另外，在专利文献2中有如下的报告，即，使特定的芳香族环氧化合物与(甲基)丙烯酸的反应产物进一步与多元羧酸或其酸酐发生反应而得到含有不饱和基团的化合物，含有该含不饱和基团化合物作为树脂主成分的黑色抗蚀剂，具有高遮光率，容易通过光刻法形成精密图案(finepattern)，而且成为绝缘性、耐热性、密合性、及室温保存稳定性也出色遮光性薄膜形成用组合物。但是，该专利文献2是适合作为黑色矩阵的标准膜厚的1μm左右的薄膜用黑色抗蚀剂，对于超过1.5μm之类的膜厚相关的光固化性、显影特性等尚未提及。

为了实现高明彩化、高精细化，作为滤色器相关材料之一的树脂黑色矩阵，以膜厚1μm左右的薄膜的使用范围是主流，但近年来要求具有更高的高遮光化，膜厚超过1.5μm的树脂黑色矩阵也重新粉墨登场。另外，最近已导入滤色器阵列(color filter on array)技术的面板备受瞩目。该技术是使滤色器基板和TFT阵列基板一体化的技术，不需要两个基板的精密对位，可以使滤色器的红、蓝、绿各像素微细化至极限，所以与面板的高精细化有关。不过，这样的滤色器阵列用的树脂黑色矩阵需要高遮光性，所以通常膜厚需要为2μm以上。

但是，随着树脂黑色矩阵膜厚的增加，在被曝光的部分，相对膜厚方向的交联密度的差扩大，所以实现高灵敏度化得到形状良好的黑色图案变得更难。进而，在随后的热煅烧过程中，在被曝光的部分有相对膜厚方向的交联密度的差，所以涂膜表面和在基板附近的热固化收缩出现差异，涂膜表面粗糙度增大，表面平滑性恶化，表面发生皱褶，或会对其后的红、蓝、绿各像素的形成造成不良影响。

因此，适于厚膜的滤色器相关材料的例示见于专利文献3～6等。不过，专利文献3公开的方法是反复进行基于印刷法的薄膜印刷而成膜为1.5～1.8μm左右的方法，因此制膜需要较长时间，而且，不是涉及树脂黑色矩阵的形成方法的内容，而是涉及红、蓝、绿等彩色矩阵的形成方法的内容，所以被用作遮光膜时遮光能力不足。另外，专利文献4是通过背光形成厚膜的方法，但这也不是将黑色用作遮光膜，而是将蓝色用作遮光膜，在遮光性方面不足，进而，由于进行与普通工艺不同的背面曝光，所以在生产率或成品率方面存在问题。进而，专利文献5是涉及配合有无机氧化物溶胶的平坦化性能出色的滤色器用保护膜的内容，在使用该文献记载的组合物形成了遮光膜的情况下，遮光能力大大不足。