[发明专利]等离子处理装置和等离子处理方法

权利要求书

1.一种等离子处理装置，其包括：

筒体状的处理容器，其能够被抽真空；

保持部件，其用于保持多个被处理体并插入到上述处理容器内或从上述处理容器内取出；

气体供给部件，其用于向上述处理容器内供给气体；

活化部件，其沿着上述处理容器的长度方向设置，利用由高频电力产生的等离子体对上述气体进行活化，

该等离子处理装置用于对上述被处理体实施等离子处理，其特征在于，其包括：

筒体状的屏蔽壳体，其为了遮断高频而以包围上述处理容器的周围的方式设置且接地；

冷却机构，其在上述等离子处理过程中用于使冷却气体沿着上述屏蔽壳体与上述处理容器之间的空间部流动。

2.根据权利要求1所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述冷却机构包括：

吸气集管部，其设于上述屏蔽壳体的一端，用于吸入上述冷却气体；

排气集管部，其设于上述屏蔽壳体的另一端，其与排气源连接，用于排出上述屏蔽壳体内的气氛气体。

3.根据权利要求2所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述排气源是用于排出装置内的气氛气体的管道，是设置有上述等离子处理装置的工厂管道。

4.根据权利要求2所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述排气源是排气泵。

5.根据权利要求2所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述吸气集管部包括：

气体流通管道，其沿着上述屏蔽壳体的侧壁的周向设于该屏蔽壳体的侧壁上；

气体流通孔，其沿着上述屏蔽壳体的侧壁的周向以规定的间隔形成在该屏蔽壳体的侧壁上，用于将上述气体流通管道和上述屏蔽壳体内连通；

气体导入口，其设于上述气体流通管道，用于吸入上述冷却气体。

6.根据权利要求5所述的等离子处理装置，其特征在于，

在上述气体流通孔中安装有形成有多个孔的冲孔金属件。

7.根据权利要求2所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述排气集管部包括：

气体流通孔，其形成在堵住上述屏蔽壳体的端面的端板上；

箱状的排气箱，其以围绕并覆盖该气体流通孔的方式设置；

气体排气口，其设于该排气箱上；

排气路径，其与该气体排气口连接而与上述排气源相连通。

8.根据权利要求7所述的等离子处理装置，其特征在于，

在上述气体流通孔中安装有形成有多个孔的冲孔金属件。

9.根据权利要求2所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述冷却气体是作为设置有上述等离子处理装置的工厂的清洁室内的气氛气体。

10.根据权利要求2所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述处理容器沿铅垂方向呈纵长地设置。

11.根据权利要求10所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述吸气集管部设于上述屏蔽壳体的下端部，上述排气集管部设于上述屏蔽壳体的上端部。

12.根据权利要求10所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述吸气集管部设于上述屏蔽壳体的上端部，上述排气集管部设于上述屏蔽壳体的下端部。

13.根据权利要求2所述的等离子处理装置，其特征在于，

该等离子处理装置包括：

温度测量部件，其用于对上述空间部内的气氛气体的温度进行测量；

排气路径，其设于上述排气集管部与上述排气源之间；

阀机构，其设在上述排气路径的中途，在将上述等离子处理装置维持在待命状态的状态下，以预先设定的排气流量排出上述空间部的气氛气体时的上述温度测量部件的测量温度低于预先设定的阈值温度的情况下，该阀机构在上述等离子处理时处于关闭状态。

14.根据权利要求13所述的等离子处理装置，其特征在于，

上述阀机构包括压力调整阀和开闭阀。