[发明专利]光刻设备、定位系统以及定位方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种光刻设备、用于光刻设备的定位系统以及用于光刻设备的定位方法。

背景技术

光刻设备是一种将所需图案应用到衬底上(通常应用到所述衬底的目标部分上)的机器。例如，可以将光刻设备用在集成电路(IC)的制造中。在这种情况下，可以将可选地称为掩模或掩模版的图案形成装置用于生成待形成在所述IC的单层上的电路图案。可以将该图案转移到衬底(例如，硅晶片)上的目标部分(例如，包括一部分管芯、一个或多个管芯)上。典型地，经由成像将所述图案转移到在所述衬底上设置的辐射敏感材料(抗蚀剂)层上。通常，单个衬底将包含连续形成图案的相邻目标部分的网络。公知的光刻设备包括：所谓步进机，在所述步进机中，通过将整个图案一次曝光到所述目标部分上来辐射每一个目标部分；以及所谓扫描器，在所述扫描器中，通过辐射束沿给定方向(“扫描”方向)扫描所述图案、同时沿与该方向平行或反向平行的方向扫描所述衬底来辐射每一个目标部分。还可以通过将所述图案压印到所述衬底上，而将所述图案从所述图案形成装置转移到所述衬底上。

光刻设备可以包括一个或更多个可移动物体，例如前面提到的衬底台和/或图案形成装置。可移动物体可以通过控制系统相对于框架(例如量测框架或基础框架)定位。控制系统包括用以测量可移动物体的位置的测量系统、用以施加力给可移动物体的致动器、和用以基于测量系统的输出提供驱动信号给致动器的控制器。

一个重要的问题在于，如果控制系统由于例如供电中断或控制系统的部件失效的原因而失效，该如何处理。在一些实施例中，应急策略是禁用控制系统，使得可移动物体和框架之间的摩擦减小可移动物体的动能。然后在可移动物体与其周围物体碰撞时消耗所有剩余动能。

然而，在光刻设备的可能产出方面需求不断提高，因而对在有限空间内的可移动物体的速度要求不断提高，位置精确度导致使用轻量的材料、敏感的部件、高的加速度以及可移动物体和其周围物体之间小的间隔，这些导致紧凑的敏感系统。目前的应急策略在可移动物体与其周围物体碰撞时不再能有效地防止可移动物体(和其周围物体)受到损坏。如果可移动物体被损坏，这也意味着不希望的光刻设备的停机，以便修理或更换可移动物体和/或修理昂贵的光刻设备。

发明内容

本发明旨在提供一种具有改进的应急策略的光刻设备。

根据本发明的一实施例，提供一种用于光刻设备的定位系统，包括：控制系统，用于沿至少一个基本上平行于框架的方向定位所述光刻设备的可移动物体，所述控制系统包括：测量系统，其用于测量所述可移动物体的位置；致动器，其用于施加力到所述可移动物体；和控制器，其基于所述测量系统的输出提供驱动信号给所述致动器；和紧急制动系统，其配置成：确定所述控制系统的失效，并且当确定或如果确定所述失效，则禁用所述控制系统并且对抗所述框架拉动所述可移动物体。

根据本发明的另一实施例，提供一种光刻设备，包括：照射系统，其配置成调节辐射束；支撑结构，其构造成支撑图案形成装置，所述图案形成装置能够将图案在所述辐射束的横截面上赋予所述辐射束以形成图案化的辐射束；衬底台，其构造成保持衬底；投影系统，其配置成将所述图案化的辐射束投影到所述衬底的目标部分上；和定位系统，其包括控制系统，所述控制系统用于沿至少一个基本上平行于框架的方向定位所述光刻设备的可移动物体，所述控制系统包括：测量系统，所述测量系统用于测量所述可移动物体的位置；致动器，所述致动器用于施加力到所述可移动物体；和控制器，所述控制器基于所述测量系统的输出提供驱动信号到所述致动器；和紧急制动系统，所述紧急制动系统配置成确定所述控制系统的失效，并且当确定或如果确定所述失效，则禁用所述控制系统并且对抗所述框架拉动所述可移动物体。

根据本发明的又一实施例，提供一种用于光刻设备的定位方法，包括：沿至少一个基本上平行于框架的方向通过控制系统定位所述光刻设备的可移动物体；通过紧急制动系统确定所述控制系统的失效；和当确定或如果确定所述失效，通过所述紧急制动系统禁用所述控制系统；并通过所述紧急制动系统对抗所述框架拉动所述可移动物体。

附图说明

现在参照随附的示意性附图，仅以举例的方式，描述本发明的实施例，其中在附图中相应的附图标记表示相应的部件，且其中：

图1描述了根据本发明实施例的光刻设备；

图2示出根据本发明另一实施例的光刻设备的示意图；

图3示出根据本发明还一实施例的定位系统的示意图；和

图4示出用以通过根据图3中的实施例的紧急制动系统减小可移动物体的动能的不同方式的示意图。

具体实施方式