[发明专利]纯水生成装置

说明书

技术领域

本发明涉及能够简易地生成纯水的纯水生成装置。

背景技术

在化学工业、机械工业的设备、原材料及产品的清洗中，通常使用去除了杂质后的纯水。这是因为，如果在清洗中使用城市用水(自来水)，则城市用水中包含的微量杂质将附着并残留在清洗对象物上。

并且，在进行食品、饮料和医药品等的批量生产时，如果作为原材料的水所包含的杂质的量存在偏差，则直接关系到质量的差异。因此，作为这些饮料食品、医药品等的原材料，也广泛使用纯水。

特别在半导体器件的制造工艺中，即使在器件上残留有极其微量的杂质，也会对质量造成严重影响，所以要使用比纯水的纯度更高的超纯水。

这里，纯水是指比电阻值为大约1～10MΩ·cm的水，超纯水是指比电阻值为大约10MΩ·cm以上的水。例如，纯水是通过使城市用水通过过滤器、活性炭过滤器、离子交换树脂、逆渗透膜而生成的。

在日本特开2000-189760号公报中公开了如下的纯水制造装置：该纯水制造装置包含：具有第1逆渗透膜分离装置的工业用水处理系统；具有第2逆渗透膜分离装置的半导体制造排水处理系统；将这些处理系统的处理水混合成混合原水的混合装置；以及具有串联配置了两级以上的多级逆渗透膜分离装置的混合原水处理系统。

近年来，还采用过如下的方法等：将称为EDI(电再生式离子交换装置)的离子交换膜与离子交换树脂相组合，从外部施加电位差，由此使离子浓缩并分离，例如在日本特开2000-317457号公报中公开了这种纯水生成方法。

一般而言，这些纯水生成装置具有多个过滤器、活性炭过滤器、离子交换树脂等，而且还具有用于贮存所生成的纯水的水箱，所以体积非常大。尤其是，生成的纯水的纯度越高，所需要的过滤器等越多，所以，纯水生成装置大型化。因此，在许多半导体器件制造工厂等中，在场地内设有超纯水生成设施，供给工厂整体的超纯水。

【专利文献1】日本特开2000-189760号公报

【专利文献2】日本特开2000-317457号公报

但是，有时在工厂内的一部分中不需要达到例如超纯水的纯度，而是利用1MΩ·cm左右的简易纯水就足够了。并且，由于活性炭过滤器和离子交换树脂等需要频繁地更换，费用高昂。

发明内容

本发明正是鉴于这种情况而完成的，其目的在于，提供一种不需要贮水箱的小型纯水生成装置。

根据本发明，提供一种纯水生成装置，该纯水生成装置对水进行提纯而生成纯水，其特征在于，该纯水生成装置具有：水供给源；逆渗透膜模块，其将从该水供给源供给的水分离为浓缩排水和纯水；水供给路径，其从该水供给源向该逆渗透膜模块供给水；加压泵，其设在该水供给路径上，对向该逆渗透膜模块供给的水进行加压；排水路径，其排出来自该逆渗透膜模块的浓缩排水；排水返回路径，其从该排水路径分支而连接到该水供给路径的比该加压泵更上游的一侧；纯水流出路径，其流出由该逆渗透膜模块生成的纯水；纯水返回路径，其从该纯水流出路径分支而连接到该水供给路径的比该加压泵更上游的一侧；开闭阀，其配设在比该排水路径与该排水返回路径之间的分支点更下游的一侧的该排水路径上；以及止回阀，其配设在该纯水返回路径上，防止提纯前的水通向该纯水流出路径。

优选的是，纯水生成装置还具有纯水浓度测量单元，该纯水浓度测量单元配设在所述排水路径、排水返回路径、纯水流出路径或纯水返回路径中的任意路径上，纯水生成装置根据由该纯水浓度测量单元测量的纯水浓度来控制所述开闭阀的开闭。

根据本发明，能够提供不需要贮水箱的小型纯水生成装置。并且，由于设置了纯水返回路径，所以，在流出的纯水量少或纯水未流出的情况下，能够防止纯水流出路径的水压上升。其结果，能够防止逆渗透膜模块的分离性降低。即使在纯水的流出量产生偏差的情况下，也能够防止所生成的纯水的纯水浓度(电解质浓度)恶化。

而且，在纯水返回路径上设置了止回阀，因此，精炼前的水不会流到纯水流出路径中。

根据第2方面所述的发明，根据由纯水浓度测量单元测量的纯水浓度来控制开闭阀，所以，能够将来自纯水生成装置的排水控制为必要最小限度。能够直接供给生成后的纯水，能够防止纯水因贮存在贮水箱中而劣化(电解质浓度上升)。

附图说明

图1是本发明的实施方式的纯水生成装置的示意图。

标号说明