[发明专利]适于与外涂的光致抗蚀剂一起使用的涂层组合物

权利要求书

1.一种涂敷的基体，所述涂敷的基体包含：

(a)包含树脂的涂层组合物层，该树脂包含二烯烃和二烯亲和物的反应产物；和

(b)所述涂层组合物层之上的光致抗蚀剂层。

2.一种涂敷的基体，所述涂敷的基体包含：

(a)包含树脂的涂层组合物层，该树脂包含狄尔斯-阿尔德反应产物；和

(b)所述涂层组合物层之上的光致抗蚀剂层。

3.如权利要求1或2所述的基体，其中所述光致抗蚀剂层的水性碱性显影剂也显影下层的涂层组合物层。

4.如权利要求1至3中任一项所述的基体，其中反应成分是三元共聚物、四元共聚物或五元共聚物。

5.如权利要求1至4中任一项所述的基体，其中所述涂层组合物层不交联。

6.如权利要求1至5中任一项所述的基体，其中涂层组合物层的树脂包含含酰亚胺的二烯亲和物和多环芳族基团的反应产物。

7.如权利要求1至5中任一项所述的基体，其中涂层组合物层的树脂包含(1)二烯亲和物和(2)蒽或并五苯基团的反应产物。

8.一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，包括：

(a)将包含树脂的组合物的涂层涂敷于基体上，该树脂包含二烯烃和二烯亲和物的反应产物；

(b)将光致抗蚀剂层涂敷于涂层组合物层上。

9.一种形成光致抗蚀剂浮雕图像的方法，包括：

(a)将包含树脂的组合物的涂层涂敷于基体上，该树脂包含狄尔斯-阿尔德的反应产物；

(b)将光致抗蚀剂层涂敷于涂层组合物层上。

10.如权利要求11或12所述的方法，其中涂敷的光致抗蚀剂层暴露于图案化辐射然后用水性碱性显影剂组合物显影，由此所述显影剂组合物在光致抗蚀剂层和下层涂层组合物层中选择性地除去由图案化辐射在光致抗蚀剂层中所确定的图像。

11.一种与外涂的光致抗蚀剂一起使用的减反射组合物，该减反射组合物包括：

含狄尔斯-阿尔德反应产物的树脂。

12.一种与外涂的光致抗蚀剂一起使用的减反射组合物，该减反射组合物包括：

含二烯烃和二烯亲和物的反应产物的树脂。

13.如权利要求11或12所述的组合物，其中减反射组合物的树脂包括含酰亚胺的二烯亲和物和多环芳族基团的反应产物。

14.如权利要求11或12所述的组合物，其中减反射组合物树脂包括(1)含酰亚胺的二烯亲和物和(2)蒽或并五苯基团的反应产物。

15.如权利要求11或12所述的组合物，所述组合物包括含下面任意分子式的基团的化合物：

其中，上面分子式中每个R独立地代表氢或非氢取代基。

16.如权利要求11或12所述的组合物，其中所述组合物包含具有一个或多个重复单元的树脂，所述重复单元具有一个或多个下面分子式的基团。

其中，上面分子式中每个R独立地代表氢或非氢取代基。

17.一种具有下面任意分子式的基团的化合物：

其中，上面分子式中每个R独立地代表氢或非氢取代基。

18.一种具有下面任意分子式的化合物：

其中，上面分子式中每个R独立地代表氢或非氢取代基；并且R’是氢或C_1-6烷基如甲基。