[发明专利]一种氧化锌基溅射靶材的制备方法

权利要求书

1.一种氧化锌基溅射靶材的制备方法，包括步骤：

(1)将掺杂氧化锌纳米粉体经30MPa～150MPa的模压，保压30s～300s，得到模压坯料；

(2)将模压坯料经120MPa～300MPa冷等静压，保压60s～600s，得到冷等静压坯料；

(3)将冷等静压坯料先以0.5℃/min～10℃/min的升温速率升到第一步设定温度950℃～1300℃，并保温1min～30min，然后以10℃/min～100℃/min的降温速率降到第二步烧结温度650℃～1100℃，并保温2h～40h，最后以0.5℃/min～10℃/min的降温速率降至室温，经切割、打磨，制成氧化锌基溅射靶材。

2.根据权利要求1所述的氧化锌基溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述的掺杂氧化锌纳米粉体的粒径为10nm～70nm。

3.根据权利要求1所述的氧化锌基溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述的掺杂氧化锌纳米粉体选用掺杂有铝、镓、铟、锡、硼、铬、钒中的一种掺杂元素或多种掺杂元素的氧化锌纳米粉体。

4.根据权利要求3所述的氧化锌基溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述的掺杂元素总摩尔与氧化锌中锌离子的摩尔比小于等于0.18∶1。

5.根据权利要求3所述的氧化锌基溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述的两种掺杂元素的摩尔比为0.05～1∶1。

6.根据权利要求1～5任一项所述的氧化锌基溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述的掺杂氧化锌纳米粉体的制备方法，包括步骤：

(1)将掺杂金属盐和锌盐溶解到去离子水中形成盐总浓度为0.5mol/L～3mol/L的盐溶液，其中，掺杂金属盐中的金属离子与锌盐中的锌离子的摩尔比小于等于0.18∶1；

(2)将沉淀剂溶解到去离子水中形成1mol/L～6mol/L的沉淀剂溶液；

(3)在转速为400转/分钟～800转/分钟的强烈搅拌下，将步骤(1)中配制的盐溶液以5mL/min～50mL/min的速度均匀地滴加至步骤(2)配制的沉淀剂溶液中，滴加过程中保持混合体系的pH值为5～10，温度10℃～80℃，获得共沉淀产物；

(4)将上述共沉淀产物陈化10h～30h后，沉淀物依次用去离子水和无水乙醇洗涤后干燥，得到白色产物；

(5)将上述白色产物在400℃～800℃煅烧1h～5h，制得掺杂氧化锌纳米粉体；

所述的掺杂金属盐为铝盐、镓盐、铟盐、锡盐、硼盐、铬盐、钒盐中的一种或多种。

7.根据权利要求6所述的氧化锌基溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述的掺杂金属盐选自硝酸铝、硝酸镓、硝酸铟、氯化锡、硼酸、硝酸铬、硝酸钒中的一种或两种；

或者，所述的锌盐选自硫酸锌、硝酸锌、醋酸锌或氯化锌中的一种；

或者，所述的沉淀剂选自氨水、碳酸铵、碳酸氢铵或尿素中的一种。

8.根据权利要求6或7所述的氧化锌基溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述的两种掺杂金属盐中的两种掺杂金属离子的摩尔比值为0.05～1∶1。

9.根据权利要求1所述的氧化锌基溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述的氧化锌基溅射靶材的晶粒尺寸为0.5μm～20μm。

10.根据权利要求1所述的氧化锌基溅射靶材的制备方法，其特征在于，所述的氧化锌基溅射靶材的致密度高于98％。