[发明专利]一种柔性紫外-可见光掩模的制备方法无效
申请号: | 201010167094.3 | 申请日: | 2010-04-30 |
公开(公告)号: | CN101813882A | 公开(公告)日: | 2010-08-25 |
发明(设计)人: | 杨万泰;汪炉林;马育红 | 申请(专利权)人: | 北京化工大学 |
主分类号: | G03F1/00 | 分类号: | G03F1/00 |
代理公司: | 北京思海天达知识产权代理有限公司 11203 | 代理人: | 刘萍 |
地址: | 100029 *** | 国省代码: | 北京;11 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 柔性 紫外 可见光 制备 方法 | ||
1.一种柔性紫外-可见光掩模的制备方法,通过受限光催化氧化反应对透明柔性的聚合物薄膜或片材表面进行亲水性改性得到表面水接触角为40±5°的亲水聚合物表面;通过溶胶-凝胶法在该表面得到无机涂层表面水接触角为110±5°,厚度为400-1000nm的全透明柔性有机/无机杂化膜为打印基材;再通过喷墨打印机在该基材表面直接打印,得到通过计算机设计的任意微米级表面图案。
2.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述聚合物薄膜或片材材料为:双向拉伸聚丙烯、流延聚丙烯、低密度聚乙烯、高密度聚乙烯或聚对苯二甲酸乙二醇酯。
3.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:所述聚合物薄膜或片材的厚度在20-100μm之间。
4.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:聚合物薄膜或片材表面亲水性改性方法:过硫酸氨水溶液被夹在二片薄膜或片材之间,用高压汞灯辐照装置辐照2分钟,功率为1000w,λ=254nm处的光强为9500μw/m2。
5.根据权利要求1所述的方法,其特征在于,有机/无机杂化膜制备方法:在常温下,将正硅酸乙酯、去离子水、盐酸和乙醇配成混合溶液,搅拌搅拌0.5h,再加入聚乙二醇400,继续搅拌0.5h,再加入3-(2,3-环氧丙氧)丙基三甲氧基硅烷,继续搅拌3-5h的混合液,然后在凝胶机作用下将上述混合液旋涂于亲水改性的聚合物表面,将旋涂过的聚合物置于真空烘箱内,在10分钟时间内升温到110℃,并且恒温12-24h;超声清洗以除去未反应的小分子及其它污染物,干燥。
6.根据权利要求1所述的方法,其特征在于:通过颜料型喷墨打印机将所设计微图案直接打印在打印基材表面,所述表面图案是厚度在500nm-2μm,光吸收带在500nm以下的颜料型墨水层。
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G03F 图纹面的照相制版工艺,例如,印刷工艺、半导体器件的加工工艺;其所用材料;其所用原版;其所用专用设备
G03F1-00 用于图纹面的照相制版的原版,例如掩膜,光掩膜;其所用空白掩膜或其所用薄膜;其专门适用于此的容器;其制备
G03F1-20 .用于通过带电粒子束(CPB)辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如通过电子束;其制备
G03F1-22 .用于通过100nm或更短波长辐照成像的掩膜或空白掩膜,例如 X射线掩膜、深紫外
G03F1-26 .相移掩膜[PSM];PSM空白;其制备
G03F1-36 .具有临近校正特征的掩膜;其制备,例如光学临近校正(OPC)设计工艺
G03F1-38 .具有辅助特征的掩膜,例如用于校准或测试的特殊涂层或标记;其制备