[发明专利]太阳能电池无效
申请号: | 201010168797.8 | 申请日: | 2010-04-30 |
公开(公告)号: | CN101866967A | 公开(公告)日: | 2010-10-20 |
发明(设计)人: | 汪连山;申志辉;刘胜 | 申请(专利权)人: | 华中科技大学 |
主分类号: | H01L31/042 | 分类号: | H01L31/042;H01L31/0304;H01L31/18 |
代理公司: | 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 | 代理人: | 王守仁 |
地址: | 430074 湖北省武汉市洪山区*** | 国省代码: | 湖北;42 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 太阳能电池 | ||
1.一种太阳能电池,其特征是一种硅基单结氮化镓铟太阳能电池,该电池的结构为由自下而上排列的背面电极(11)、硅衬底(1)、籽晶层(2)、缓冲层(3)、n型掺杂的氮化镓缓冲层(4)、InaGa1-aN层(5)、非故意掺杂的InbGa1-bN层(6)、p型掺杂的IncGa1-cN层(7)、窗口层(8)、正面电极(9)和减反射导电膜(10)组成,其中:硅衬底(1)和InaGa1-aN层(5)为n型掺杂结构,籽晶层(2)和缓冲层(3)由氧化锌材料制成,窗口层(8)由p型重掺杂的氮化镓制成,减反射导电膜(10)覆盖窗口层(8)除正面电极(9)外的区域。
2.如权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:硅衬底(1)的电子浓度为5E14-2E20/cm3。
3.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:籽晶层(2)和缓冲层(3)的厚度分别为0.01-0.1μm、0.2-2.5μm。
4.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:n型掺杂的氮化镓缓冲层(4)的厚度为0.5-3μm,电子浓度为1E16-1E19/cm9。
5.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:所述n型掺杂InaGa1-aN层(5)的厚度为0.05-0.3μm,电子浓度为5E17-5E19/cm3,0.15≤a≤0.35。
6.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:所述的非故意掺杂的InbGa1-bN层(6)的厚度为0.2-0.6μm,0.45≤b≤0.65。
7.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:所述的p型掺杂的IncGa1-cN层(7)的厚度为0.05-0.2μm,空穴浓度为1E17-1E19/cm3,0.05≤c≤0.45。
8.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:所述的窗口层(8)的厚度为0.05-0.2μm,空穴浓度为5E17-5E19/cm3,并使用强碱处理成绒面结构。
9.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于所述的电极中,正面电极(9)是金电极或镍金电极或铬金电极,厚度为0.2-5μm;背面电极(11)是银电极或银铝电极,厚度为0.5-10μm。
10.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:所述的减反射导电膜(10)的材料是ITO导电膜或AZO导电膜或ZnS/MgF2膜,厚度为0.05-0.1μm。
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H01L 半导体器件;其他类目中不包括的电固体器件
H01L31-00 对红外辐射、光、较短波长的电磁辐射,或微粒辐射敏感的,并且专门适用于把这样的辐射能转换为电能的,或者专门适用于通过这样的辐射进行电能控制的半导体器件;专门适用于制造或处理这些半导体器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半导体本体为特征的
H01L31-04 .用作转换器件的
H01L31-08 .其中的辐射控制通过该器件的电流的,例如光敏电阻器
H01L31-12 .与如在一个共用衬底内或其上形成的,一个或多个电光源,如场致发光光源在结构上相连的,并与其电光源在电气上或光学上相耦合的