[发明专利]太阳能电池无效

专利信息
申请号: 201010168797.8 申请日: 2010-04-30
公开(公告)号: CN101866967A 公开(公告)日: 2010-10-20
发明(设计)人: 汪连山;申志辉;刘胜 申请(专利权)人: 华中科技大学
主分类号: H01L31/042 分类号: H01L31/042;H01L31/0304;H01L31/18
代理公司: 湖北武汉永嘉专利代理有限公司 42102 代理人: 王守仁
地址: 430074 湖北省武汉市洪山区*** 国省代码: 湖北;42
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摘要:
搜索关键词: 太阳能电池
【权利要求书】:

1.一种太阳能电池,其特征是一种硅基单结氮化镓铟太阳能电池,该电池的结构为由自下而上排列的背面电极(11)、硅衬底(1)、籽晶层(2)、缓冲层(3)、n型掺杂的氮化镓缓冲层(4)、InaGa1-aN层(5)、非故意掺杂的InbGa1-bN层(6)、p型掺杂的IncGa1-cN层(7)、窗口层(8)、正面电极(9)和减反射导电膜(10)组成,其中:硅衬底(1)和InaGa1-aN层(5)为n型掺杂结构,籽晶层(2)和缓冲层(3)由氧化锌材料制成,窗口层(8)由p型重掺杂的氮化镓制成,减反射导电膜(10)覆盖窗口层(8)除正面电极(9)外的区域。

2.如权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:硅衬底(1)的电子浓度为5E14-2E20/cm3

3.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:籽晶层(2)和缓冲层(3)的厚度分别为0.01-0.1μm、0.2-2.5μm。

4.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:n型掺杂的氮化镓缓冲层(4)的厚度为0.5-3μm,电子浓度为1E16-1E19/cm9

5.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:所述n型掺杂InaGa1-aN层(5)的厚度为0.05-0.3μm,电子浓度为5E17-5E19/cm3,0.15≤a≤0.35。

6.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:所述的非故意掺杂的InbGa1-bN层(6)的厚度为0.2-0.6μm,0.45≤b≤0.65。

7.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:所述的p型掺杂的IncGa1-cN层(7)的厚度为0.05-0.2μm,空穴浓度为1E17-1E19/cm3,0.05≤c≤0.45。

8.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:所述的窗口层(8)的厚度为0.05-0.2μm,空穴浓度为5E17-5E19/cm3,并使用强碱处理成绒面结构。

9.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于所述的电极中,正面电极(9)是金电极或镍金电极或铬金电极,厚度为0.2-5μm;背面电极(11)是银电极或银铝电极,厚度为0.5-10μm。

10.根据权利要求1所述的太阳能电池,其特征在于:所述的减反射导电膜(10)的材料是ITO导电膜或AZO导电膜或ZnS/MgF2膜,厚度为0.05-0.1μm。

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