[发明专利]一种大气等离子体喷涂法制备细晶钨、钼涂层的方法无效
申请号: | 201010168852.3 | 申请日: | 2010-05-05 |
公开(公告)号: | CN101818318A | 公开(公告)日: | 2010-09-01 |
发明(设计)人: | 周张健;宋书香;郭双全;姚伟志;葛昌纯 | 申请(专利权)人: | 北京科技大学 |
主分类号: | C23C4/08 | 分类号: | C23C4/08;C23C4/12 |
代理公司: | 北京东方汇众知识产权代理事务所(普通合伙) 11296 | 代理人: | 刘淑芬 |
地址: | 100083*** | 国省代码: | 北京;11 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 一种 大气 等离子体 喷涂 法制 备细晶钨 涂层 方法 | ||
1.一种大气等离子体喷涂法制备细晶钨、钼涂层的方法,其特征在于:其具体工艺为:
a、喷涂原料的准备:选择粒度为30nm至30μm的钨粉、钼粉或平均粒径为15-30μm的羰基钨粉,喷涂前将所选原料粉末烘干后备用;
喷涂基体采用无氧铜、铜合金或不锈钢板,喷涂前对基体采用喷砂预处理后再用酒精或丙酮清洗;
b、喷涂:使用大气等离子体喷涂设备进行喷涂,设备功率为27kW-40kW之间;采用氩气为喷涂主气;氢气为喷涂辅气,以防止涂层氧化;送粉方式采用内送粉方式进行喷涂;在喷涂工作台周围布置喷气管,并由输气管道连接至氩气瓶,使喷涂基体周围喷入具有一定压力的氩气,使基体和涂层处于氩气气氛保护下,起到冷却基体,并防止基体和涂层氧化的作用;喷涂参数为:电弧电压60-70V,电弧电流450-600A,氩气流量为40-50L/min,氢气流量为4-7L/min,送粉速率为15-30g/min,喷涂距离约为100mm-120mm。
2.根据权利要求1所述的大气等离子体喷涂法制备细晶钨、钼涂层的方法,其特征在于:所述大气等离子体喷涂设备包括:喷涂工作台,输气管道,氩气瓶;其中,在所述喷涂工作台周围设置有喷气管,并由输气管道连接至氩气瓶,使喷涂基体周围喷入具有一定压力的氩气,使基体和涂层处于氩气气氛保护下,起到冷却基体,并防止基体和涂层氧化的作用。
3.根据权利要求1所述的大气等离子体喷涂法制备细晶钨、钼涂层的方法,其特征在于:所述步骤a中,当钨粉或钼粉粒度小于10μm时,需要采用加压破碎造粒法或预烧破碎造粒法对其预先进行造粒,以提高其流动性。
4.根据权利要求1所述的大气等离子体喷涂法制备细晶钨、钼涂层的方法,其特征在于:所述步骤a中,所选原料粉末是在100℃条件下烘干30min,以避免喂粉过程中的团聚和送粉管堵塞。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于北京科技大学,未经北京科技大学许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010168852.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 上一篇:一种罐头灌装装置
- 下一篇:一种液体洗涤剂灌装生产线
- 同类专利
- 专利分类
C23C 对金属材料的镀覆;用金属材料对材料的镀覆;表面扩散法,化学转化或置换法的金属材料表面处理;真空蒸发法、溅射法、离子注入法或化学气相沉积法的一般镀覆
C23C4-00 熔融态覆层材料喷镀法,例如火焰喷镀法、等离子喷镀法或放电喷镀法的镀覆
C23C4-02 .待镀材料的预处理,例如为了在选定的表面区域镀覆
C23C4-04 .以镀覆材料为特征的
C23C4-12 .以喷镀方法为特征的
C23C4-18 .后处理
C23C4-14 ..用于长形材料的镀覆