[发明专利]一种平面结构闪耀光栅有效
| 申请号： | 201010169432.7 | 申请日： | 2010-05-07 |
| 公开（公告）号： | CN102236118A | 公开（公告）日： | 2011-11-09 |
| 发明（设计）人： | 曹扬;李宏强;魏泽勇;武超;樊元成;余兴;韩缙;张冶文;陈鸿 | 申请（专利权）人： | 同济大学 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18;B32B15/04 |
| 代理公司： | 上海智信专利代理有限公司 31002 | 代理人： | 吴林松 |
| 地址： | 200092*** | 国省代码： | 上海;31 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 平面 结构 闪耀 光栅 | ||
1.一种平面结构闪耀光栅，其特征在于：其包括上表面金属结构层、介质层和金属底板层，从上至下依次相叠，上表面金属结构层的每一个金属结构单元与其下方的介质和金属底板构成了一个光学微腔，与入射光形成磁谐振。
2.如权利要求1所述的平面结构闪耀光栅，其特征在于：所述上表面金属结构层由周期排列的金属单元结构组成。
3.如权利要求2所述的平面结构闪耀光栅，其特征在于：所述上表面金属结构层的每个周期单元由两种或两种以上金属结构组成，或者由同一种金属结构组成，金属结构之间具有相同或者不同的间距。
4.如权利要求3所述的平面结构闪耀光栅，其特征在于：所述金属单元结构为一维形式的金属带排成光栅结构或者复式光栅结构。
5.如权利要求3所述的平面结构闪耀光栅，其特征在于：所述金属单元结构为具有二维阵列形式的金属方片、金属圆片或者金属同轴环周期结构或者复式格子结构。
6.如权利要求2所述的平面结构闪耀光栅，其特征在于：所述金属单元周期结构的周期数需大于10，周期长度等于工作波长的0.2倍到2倍。
7.如权利要求1所述的平面结构闪耀光栅，其特征在于：所述金属底板上表面需经过抛光处理，其表面粗糙度不应大于工作波长的十分之一。
8.如权利要求1所述的平面结构闪耀光栅，其特征在于：所述介质层为一层均匀的电介质。
9.如权利要求8所述的平面结构闪耀光栅，其特征在于：所述介质层的厚度要求是光学亚波长厚度，比光波波长二分之一小。
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