[发明专利]衬底涂层及其形成方法

权利要求书

1.一种衬底涂层，其包含：

第一层，其用于附着于衬底上，所述第一层的成分至少包含硅含量丰富的碳，其中硅含量约等于或大于碳含量；及

第二层，其附着于所述第一层上，所述第二层的成分至少包含掺杂氟的类金刚石碳。

2.根据权利要求1所述的涂层，其中所述第一层中硅与碳的比例约在1∶1到20∶1之间。

3.根据权利要求1所述的涂层，其中所述第一层作为所述第二层与所述衬底的应力匹配界面。

4.根据权利要求1所述的涂层，其中所述掺杂氟的类金刚石碳中氟与碳的比例实质上落在约1∶0.5到1∶100的范围内。

5.根据权利要求1所述的涂层，其中所述掺杂氟的类金刚石碳中氟与碳的比例实质上落在约1∶10到1∶80的范围内。

6.根据权利要求1所述的涂层，其中所述第一层及第二层是以等离子辅助式化学气相沉积的工艺形成于所述衬底上。

7.根据权利要求1所述的涂层，其中第一层及第二层的厚度实质上各小于约100nm。

8.根据权利要求1所述的涂层，其中所述衬底由玻璃、不锈钢、镁合金、陶瓷、铝或铝合金形成。

9.一种形成涂层的方法，其包含：

在衬底上形成第一层，所述第一层的成分至少包含硅含量丰富的碳，其中硅含量约等于或大于碳含量；及

在所述第一层上形成第二层，所述第二层的成分至少包含掺杂氟的类金刚石碳。

10.根据权利要求9所述的方法，其中所述第一层中硅与碳的比例约在1∶1到20∶1之间。

11.根据权利要求9所述的方法，其中所述第一层作为所述第二层与所述衬底的应力匹配界面。

12.根据权利要求9所述的方法，其中所述掺杂氟的类金刚石碳中氟与碳的比例实质上落在约1∶0.5到1∶100的范围内。

13.根据权利要求9所述的方法，其中所述掺杂氟的类金刚石碳中氟与碳的比例实质上落在约1∶10到1∶80的范围内。

14.根据权利要求9所述的方法，其中形成所述第一层及第二层的步骤是以等离子辅助式化学气相沉积的工艺形成。

15.根据权利要求9所述的方法，其中所述衬底由玻璃、不锈钢、镁合金、陶瓷、铝或铝合金形成。

16.根据权利要求14所述的方法，其中操作压力约在0.1Torr，且沉积速度约在1nm/min到500nm/min之间。

17.根据权利要求14所述的方法，其进一步包含调整等离子辅助化学气相沉积设备的偏压的步骤。

18.根据权利要求14所述的方法，其进一步包含注入氧气、氮气、氩气或氦气以与反应气体混合的步骤。