[发明专利]并行光刻直写系统

权利要求书

1.一种并行光刻直写系统，包括光源、图形发生系统、光学系统、控制系统、运动系统和工件平台，其特征在于：还设有聚焦伺服系统，所述聚焦伺服系统包括检测光路、传感器和调焦装置，所述光学系统由微缩系统和检测光路构成，其中的微缩系统采用双远心光学系统，检测光路包括检测光源、在双远心光学系统内的第一分光器件、在检测光源和第一分光器件间的第二分光器件，检测光经第一分光器件进入双远心光学系统并照射在工件平台处的工件上，反射光经第一分光器件和第二分光器件被传感器接收，控制系统根据传感器的信号控制调焦装置动作，实现伺服聚焦。

2.根据权利要求1所述的并行光刻直写系统，其特征在于：所述光源发出的光的波长小于450纳米，所述检测光源发出的光的波长大于550纳米。