[发明专利]曝光方法及曝光装置、以及器件制造方法

权利要求书

1.一种曝光方法，经由液体利用第1能量束使物体曝光，其特征在于：

提供反射折射系统，该反射折射系统具有彼此光学共轭的多个光瞳面与大于1的数值孔径，且将利用上述第1能量束照明的第1面的图案投影至在第2面从光轴偏离的区域，该反射折射系统包含具有折射光学元件的第1光学系统、具有反射光学元件的第2光学系统、以及具有折射光学元件的第3光学系统，在上述第1面与上述第2面之间形成上述照明的图案的中间像；

为了调整上述反射折射系统的光学特性，对配置于上述第1面与在上述多个光瞳面中在光学上最接近上述第2面的光瞳面之间的光学元件，不经由上述反射折射系统的其它光学元件而照射与上述第1能量束不同波长区域的第2能量束；

为了使上述物体曝光，经由上述光学特性经调整的反射折射系统与上述液体将上述第1能量束照射于上述物体。

2.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于：

为了调整上述反射折射系统的光学特性，而移动上述反射折射系统的至少一个光学元件。

3.如权利要求2所述的曝光方法，其特征在于：

移动与上述第2能量束所照射的光学元件不同的、上述反射折射系统的至少一个光学元件。

4.如权利要求2所述的曝光方法，其特征在于：

移动包含上述第2能量束所照射的光学元件的上述反射折射系统的至少一个光学元件。

5.如权利要求2所述的曝光方法，其特征在于：

通过上述第2能量束的照射调整上述反射折射系统的非旋转对称的光学特性，通过上述至少一个光学元件的移动调整上述反射折射系统的旋转对称的光学特性。

6.如权利要求2所述的曝光方法，其特征在于：

将上述第2能量束照射于上述光学元件以使上述反射折射系统产生旋转对称的光学特性；

通过上述至少一个光学元件的移动调整上述旋转对称的光学特性。

7.如权利要求2所述的曝光方法，其特征在于：

将上述第2能量束照射于上述光学元件以产生在与上述光轴正交的面内从一侧缓缓变化至另一侧的光学特性；

通过上述至少一个光学元件的移动调整上述从一侧变化至另一侧的光学特性。

8.如权利要求7所述的曝光方法，其特征在于：

上述至少一个光学元件在相对于与上述光轴正交的面倾斜的方向上移动。

9.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于：

上述反射折射系统的光瞳面中，在从上述光轴偏离的位置，上述第1能量束的能量强度比其它部分大时，照射第3能量束以使上述光瞳面中的能量强度的分布成为旋转对称。

10.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于：

上述第2能量束照射于与在光学上最接近上述第2面的光瞳面不同的光瞳面或其附近所配置的光学元件。

11.如权利要求2所述的曝光方法，其特征在于：

移动配置于上述第1面与在上述多个光瞳面中在光学上最接近上述第1面的光瞳面之间的至少一个光学元件。

12.如权利要求2所述的曝光方法，其特征在于：

移动与上述第1～第3光学系统中的一个不同的光学系统的至少一个光学元件，上述第1～第3光学系统中的一个配置有上述第2能量束所照射的光学元件。

13.如权利要求2所述的曝光方法，其特征在于：

移动上述第1光学系统的至少一个光学元件。

14.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于：

将上述第2能量束照射于上述规定的光学元件，以使上述第1能量束通过偏离了光轴的位置的规定的光学元件具有绕上述光轴为同心圆状的温度分布、或在与上述光轴正交的面内从一侧缓缓变化至另一侧的温度分布。

15.如权利要求14所述的曝光方法，其特征在于：

为了调整上述反射折射系统的光学特性，而移动上述规定的光学元件。

16.如权利要求1所述的曝光方法，其特征在于：

上述第2能量束所照射的光学元件，包含供上述第1能量束往返的折射光学元件。