[发明专利]含有纳米MoS2固体颗粒的复合镀层的制备方法无效
申请号: | 201010171878.3 | 申请日: | 2010-05-14 |
公开(公告)号: | CN101831676A | 公开(公告)日: | 2010-09-15 |
发明(设计)人: | 纪秀林;李洪彬;顾磊;倪福生;郭卫;钱雪松;蒋爽 | 申请(专利权)人: | 河海大学常州校区 |
主分类号: | C25D3/56 | 分类号: | C25D3/56 |
代理公司: | 常州市天龙专利事务所有限公司 32105 | 代理人: | 夏海初 |
地址: | 213022 江苏*** | 国省代码: | 江苏;32 |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 含有 纳米 mos sub 固体 颗粒 复合 镀层 制备 方法 | ||
1.一种含有纳米MoS2固体颗粒的复合镀层的制备方法,其特征在于,所述复合镀层是在镍磷电镀液中添加平均粒径<40nm的MoS2固体颗粒所组成的复合镀液,用所述复合镀液通过电镀沉积在金属基体件表面所构成的。
2.根据权利要求1所述的含有纳米MoS2固体颗粒的复合镀层的制备方法,其特征在于:所述复合镀液的组分及各组分的单位体积的重量含量是:
平均粒径<40nm的MoS2固体颗粒:15~25g/L
NiSO4: 200~300g/L
NiCl4: 25~35g/L
H3BO3: 25~30g/L
H2PO3: 15~25g/L
Na3C6H5O7: 35~45g/L
表面活性剂: 20~120mg/L。
3.根据权利要求1所述的含有纳米MoS2固体颗粒的复合镀层的制备方法,其特征在于,所述电镀的电流密度在2.5~4.5A/dm2范围内,电镀的时间在1~2h范围内,电镀液工作温度在55~65℃范围内;所述镀液的PH值在2~4.5范围内。
4.根据权利要求1所述的含有纳米MoS2固体颗粒的复合镀层的制备方法,其特征在于,所述纳米MoS2固体颗粒加入镍磷电解液中之后,通过搅拌使纳米MoS2固体颗粒均匀弥散分布于镍磷电镀液中;且在实施电镀过程中,对所述复合镀液不断进行磁力搅拌,而使纳米MoS2固体颗粒均匀悬浮在镍磷电镀液中。
5.根据权利要求1所述的含有纳米MoS2固体颗粒的复合镀层的制备方法,其特征在于,所述表面活性剂,是阳离子活性剂十六烷基三甲基溴化铵(CTAB),和十二烷基甲基氯化铵的一种或者两种,再添加OP乳化剂所组成的复合型表面活性剂。
6.根据权利要求3所述的含有纳米MoS2固体颗粒的复合镀层的制备方法,其特征,经1~2h的电镀,所述复合镀层厚度在50~100μm范围内。
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