[发明专利]气体分布喷洒模块与镀膜设备

权利要求书

1.一种气体分布喷洒模块，其特征在于，包括：

一第一扩散板；

一第二扩散板，位于该第一扩散板底下；

一第三扩散板，位于该第二扩散板底下；以及

一第四扩散板，位于该第三扩散板底下并与该第三扩散板相隔一间距，其中：

该第三扩散板分为一内部区域与一外部区域，该内部区域与该外部区域的面积比为1∶1至1∶5，且

该第三扩散板具有多个气孔分布于该内部区域与该外部区域，该内部区域内与该外部区域内的该些气孔的面积比为1∶1至1∶5。

2.根据权利要求1所述的气体分布喷洒模块，其特征在于，该第三扩散板的厚度在0.1cm～0.2cm之间。

3.根据权利要求1所述的气体分布喷洒模块，其特征在于，该间距在0.1cm～3cm之间。

4.根据权利要求1所述的气体分布喷洒模块，其特征在于，该第四扩散板具有多个气孔，该第四扩散板的该多个气孔中部分气孔与第三扩散板的气孔对准，部分气孔与第三扩散板的气孔不对准。

5.根据权利要求1所述的气体分布喷洒模块，其特征在于，该第四扩散板具有多个气孔，该第四扩散板的每一气孔对准第三扩散板的多数气孔中的一部分气孔。

6.根据权利要求1所述的气体分布喷洒模块，其特征在于，该第三扩散板的该内部区域内的该些气孔分别排列成多个第一图形，且该第三扩散板的该外部区域内的该些气孔分别排列成多个第二图形。

7.根据权利要求6所述的气体分布喷洒模块，其特征在于，该些第一图形不同于该些第二图形。

8.根据权利要求1所述的气体分布喷洒模块，其特征在于，该第一、第二、第三与第四扩散板为金属扩散板。

9.根据权利要求1所述的气体分布喷洒模块，其特征在于，还包括一支撑结构，用以支撑该第一、第二、第三与第四扩散板于一腔体中。

10.一种镀膜设备，其特征在于，包括：

一腔体；

一气体分布喷洒模块，位于该腔体内；

一基板座，位于该腔体内并相对该气体分布喷洒模块配置；以及

一射频功率源，用以形成一等离子于该腔体中，其中

该气体分布喷洒模块包括：

一第一扩散板；

一第二扩散板，位于该第一扩散板底下；

一第三扩散板，位于该第二扩散板底下；以及

一第四扩散板，位于该第三扩散板底下并与该第三扩散板相隔一间距，其中：

该第三扩散板分为一内部区域与一外部区域，该内部区域与该外部区域的面积比为1∶1至1∶5，且

该第三扩散板具有多个气孔分布于该内部区域与该外部区域，该内部区域内与该外部区域内的该些气孔的面积比为1∶1至1∶5。

11.根据权利要求10所述的镀膜设备，其特征在于，该第三扩散板的厚度在0.1cm～0.2cm之间。

12.根据权利要求10所述的镀膜设备，其特征在于，该第四扩散板与该第三扩散板之间的该间距在0.1cm～3cm之间。

13.根据权利要求10所述的镀膜设备，其特征在于，该第四扩散板具有多个气孔，该第四扩散板的该多个气孔中部分气孔与第三扩散板的气孔对准，部分气孔与第三扩散板的气孔不对准。

14.根据权利要求10所述的镀膜设备，其特征在于，该第四扩散板具有多个气孔，该第四扩散板的每一气孔对准第三扩散板的多数气孔中的一部分气孔。

15.根据权利要求10所述的镀膜设备，其特征在于，该第三扩散板的该内部区域内的该些气孔分别排列成多个第一图形，且该第三扩散板的该外部区域内的该些气孔分别排列成多个第二图形。

16.根据权利要求15所述的镀膜设备，其特征在于，该些第一图形不同于该些第二图形。

17.根据权利要求10所述的镀膜设备，其特征在于，该第一、第二、第三与第四扩散板为金属扩散板。

18.根据权利要求10所述的镀膜设备，其特征在于，该气体分布喷洒模块还包括一支撑结构，用以支撑该第一、第二、第三与第四扩散板。

19.根据权利要求10所述的镀膜设备，其特征在于，该基板座包括加热板。