[发明专利]一种高真空衬氟设备

权利要求书

1.一种高真空衬氟设备，包括与真空系统相连的密封结构，在密封结构的内壁面上设有耐腐蚀的氟衬层，其特征在于：在所述氟衬层（1）与密封结构（2）的内壁面之间设有吸附腔（3），所述吸附腔（3）通过密封结构（2）上的吸附腔排气口（21）与密封结构（2）外的附加真空系统（4）相连通。

2.根据权利要求1所述的一种高真空衬氟设备，其特征在于：在所述吸附腔（3）内设有与氟衬层（1）抵接的多孔板（31）及支撑在多孔板（31）与密封结构（2）内壁间的定位支撑架（32），所述氟衬层（1）通过多孔板（31）与附加真空系统（4）相连通。

3.根据权利要求2所述的一种高真空衬氟设备，其特征在于：所述多孔板（31）为均布有若干个通孔（311）的金属板,所述通孔（311）与氟衬层（1）的表面垂直且通孔（311）的截面面积为2mm²至30mm²，通孔（311）截面面积的总和占多孔板（31）总面积的30%至70%。

4.根据权利要求2所述的一种高真空衬氟设备，其特征在于：所述定位支撑架（32）为交错均布在多孔板（31）与密封结构（2）内壁间的若干金属条。

5.根据权利要求2所述的一种高真空衬氟设备，其特征在于：所述定位支撑架（32）为螺旋形分布在多孔板（31）与密封结构（2）内壁间的金属条或弹簧管。

6.根据权利要求1所述的一种高真空衬氟设备，其特征在于：在所述吸附腔（3）的氟衬层（1）与密封结构（2）的内壁面之间夹设有带有通孔网格（51）的支撑网（5），与支撑网（5）上的通孔网格（51）对应的氟衬层（1）面积为2mm²至30mm²，且与通孔网格（51）对应的氟衬层（1）面积总和占氟衬层（1）总面积的30%至70%，所述氟衬层（1）通过通孔网格（51）与附加真空系统（4）相连通。

7.根据权利要求6所述的一种高真空衬氟设备，其特征在于：在所述支撑网（5）上对应于密封结构（2）内壁的侧面上设有若干条排气通道（52），所述附加真空系统（4）通过排气通道（52）与支撑网（5）上的通孔网格（51）相连通。

8.根据权利要求1所述的一种高真空衬氟设备，其特征在于：在所述吸附腔（3）内对应于吸附腔排气口（21）外侧同轴设有支撑环（22），在所述支撑环（22）上设有导通于吸附腔（3）与吸附腔排气口（21）的缺口（221）。

9.根据权利要求1所述的一种高真空衬氟设备，其特征在于：所述附加真空系统（4）包括与真空泵（41）相连的真空罐（42），所述真空罐（42）通过真空管道（43）与吸附腔排气口（21）相连，在所述附加真空系统（4）上设有真空表（44）和压力传感器（45），所述压力传感器（45）通过控制器与真空泵（41）上的启动开关相连。

10.根据权利要求1至9中任意一项所述的一种高真空衬氟设备，其特征在于：所述密封结构（2）为带有搅拌器（6）的反应釜，所述搅拌器（6）的连接端向上穿过密封结构（2）与旋转电机相连，所述搅拌器（6）的搅拌端向下旋转插接于密封结构（2）的内腔，所述真空系统通过密封结构（2）上方的排气口（7）与密封结构（2）内腔相连。