[发明专利]一种增强纳米狭缝透射效率的微纳结构无效
| 申请号： | 201010174265.5 | 申请日： | 2010-05-14 |
| 公开（公告）号： | CN101858998A | 公开（公告）日： | 2010-10-13 |
| 发明（设计）人： | 赵华君;袁代蓉 | 申请（专利权）人： | 重庆文理学院 |
| 主分类号： | G02B5/18 | 分类号： | G02B5/18 |
| 代理公司： | 暂无信息 | 代理人： | 暂无信息 |
| 地址： | 402160 *** | 国省代码： | 重庆;85 |
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| 摘要： | |||
| 搜索关键词： | 一种 增强 纳米 狭缝 透射 效率 结构 | ||
【权利要求书】：
1.一种用于增强纳米狭缝透射效率的微纳结构，其特征在于该结构由带狭缝的金属膜、介质隔层及周期金属条结构组成，金属膜厚度为225-275纳米、介质隔层厚度为130-240纳米、金属条周期为665-685纳米。
2.根据权利要求1所述的增强纳米狭缝透射效率的微纳结构，其特征在于该结构的金属为银，金属膜厚度为250纳米、狭缝宽度为50纳米、介质隔层厚度为190纳米、狭缝正上端金属条宽550纳米、金属条周期为675纳米、金属条槽宽为200纳米、金属条厚度为90纳米。
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