[发明专利]固态图像拾取装置及其制造方法、以及电子设备无效

专利信息
申请号: 201010174450.4 申请日: 2010-05-10
公开(公告)号: CN101887901A 公开(公告)日: 2010-11-17
发明(设计)人: 大塚洋一;小川和明;名取太知;山本笃志;越野安教;上家仁美;东宫祥哲;堂福忠幸;堀伊奈;胜谷隆之;狭山征博;下地诚也;田中良和 申请(专利权)人: 索尼公司
主分类号: H01L27/146 分类号: H01L27/146;H04N5/335
代理公司: 北京东方亿思知识产权代理有限责任公司 11258 代理人: 王安武;南霆
地址: 日本*** 国省代码: 日本;JP
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摘要:
搜索关键词: 固态 图像 拾取 装置 及其 制造 方法 以及 电子设备
【权利要求书】:

1.一种固态图像拾取装置,包括:

固态图像拾取元件,其能够根据所接收的光的量而产生电荷;

透镜,其布置在所述固态图像拾取元件的像素的上侧;

保护膜,其覆盖所述透镜的上侧,并且其表面被平坦化;和

表面膜,其形成于所述保护膜的所述表面处,并且比所述保护膜的内部亲水性高。

2.根据权利要求1所述的固态图像拾取装置,

其中,所述保护膜由含氟硅烷化合物形成;并且

所述表面膜比所述保护膜的所述内部氟含量低。

3.根据权利要求1所述的固态图像拾取装置,

其中,所述保护膜由含氟硅氧烷树脂形成。

4.根据权利要求1所述的固态图像拾取装置,

其中,所述保护膜由混合有硅石颗粒的含氟硅氧烷树脂形成,所述硅石颗粒内部具有空洞。

5.根据权利要求1所述的固态图像拾取装置,

其中,所述表面膜是通过使所述保护膜的所述表面受到用含氧气体进行的等离子体处理而形成的膜。

6.一种制造固态图像拾取装置的方法,包括下列步骤:

在固态图像拾取元件的像素的上侧形成透镜;

用保护膜覆盖所述透镜并使所述保护膜的表面平坦化;并且

在所述保护膜的所述表面处形成表面膜,所述表面膜比所述保护膜的内部亲水性高。

7.根据权利要求6所述的方法,

其中,所述表面膜是通过使所述保护膜的所述表面受到用含氧气体进行的等离子体处理而形成的。

8.一种电子设备,包括:

固态图像拾取装置;和

信号处理单元,其能够对基于由所述固态图像拾取装置产生的电荷的信号进行处理;

其中,所述固态图像拾取装置包括:

固态图像拾取元件,其能够根据所接收的光的量而产生电荷;

透镜,其布置在所述固态图像拾取元件的像素的上侧;

保护膜,其覆盖所述透镜的上侧,并且其表面被平坦化;和

表面膜,其形成于所述保护膜的所述表面处,并且比所述保护膜的内部亲水性高。

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