[发明专利]用于形成全息图的可光聚合的体系无效
申请号: | 201010176813.8 | 申请日: | 2010-03-25 |
公开(公告)号: | CN101845190A | 公开(公告)日: | 2010-09-29 |
发明(设计)人: | A·奈斯比 | 申请(专利权)人: | 索尼达德克奥地利股份公司 |
主分类号: | C08L39/06 | 分类号: | C08L39/06;C08L33/02;G03F7/027;G03H1/04 |
代理公司: | 中国专利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 韦欣华;林森 |
地址: | 奥地利*** | 国省代码: | 奥地利;AT |
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摘要: | |||
搜索关键词: | 用于 形成 全息图 聚合 体系 | ||
1.可光聚合的体系,其包括:
包括金属和具有有机可光聚合亚单元的有机单元的有机-无机化合物;
作为包含N-乙烯基吡咯烷酮或它的衍生物和丙烯酸或它的衍生物的共聚物的聚合物的载体基质化合物;
适合引发可光聚合亚单元聚合的光引发剂体系;并且
其中有机-无机化合物的分子以分子水平分布。
2.根据权利要求1的可光聚合体系,其进一步包括:
具有适合溶解有机-无机化合物的性质的溶剂。
3.根据权利要求1的可光聚合体系,其中可光聚合体系具有大于90%的透明度。
4.根据前述权利要求任一项的可光聚合体系,
其中载体基质化合物具有包含共价结合的离子基团、极性基团、形成氢键的基团和与载体基质化合物的芳香环形成络合物的金属原子的物种中的任一种;且
其中该物种适合在有机-无机化合物上表现出吸引力。
5.根据权利要求1、2和3中任一项的可光聚合体系,
其中载体基质化合物具有包含共价结合的离子基团、极性基团和形成氢键的基团的物种中的任一种;且
其中该物种适合在有机-无机化合物上表现出排斥力。
6.根据权利要求1、2和3中任一项的可光聚合体系,其中有机-无机化合物是具有正电荷金属原子的化合物。
7.根据权利要求1、2和3中任一项的可光聚合体系,其中有机-无机化合物是包括丙烯酸金属盐,二丙烯酸锌或二丙烯酸锌的衍生物,溴降冰片烷内酯羧酸三丙烯酸锆,溴降冰片烷内酯羧酸三丙烯酸铪,羧乙基丙烯酸铪,二降冰片烷羧酸二丙烯酸锆、羧乙基丙烯酸锆、溴降冰片烷内酯羧酸三丙烯酸锆、溴降冰片烷内酯羧酸三丙烯酸铪、二降冰片烷羧酸二丙烯酸锆和羧酸丙烯酸锆的混合物,以及丙烯酸金属盐、二丙烯酸锌、包含锌的聚酯丙烯酸酯、溴降冰片烷内酯羧酸三丙烯酸锆、羧乙基丙烯酸铪、二降冰片烷羧酸二丙烯酸锆和羧乙基丙烯酸锆的任意混合物的化合物中的任一种。
8.根据权利要求1的可光聚合体系,
其中载体基质化合物适合在表面上具有包含共价结合的离子基团、极性基团、形成氢键的基团和与载体基质化合物的芳香环形成络合物的金属原子的任何物种;且
其中该物种适合在有机-无机化合物上表现出吸引力。
9.根据权利要求1、2、3和8中任一项的可光聚合体系,其进一步包括:
与有机-无机化合物不同的可光聚合的单体或预聚物;
其中所述可光聚合物的单体或预聚物在所述载体基质化合物中具有与在所述载体基质化合物中的有机-无机化合物的扩散系数不同的扩散系数;且
其中所述可光聚合的单体或预聚物具有与有机-无机化合物的折射率不同的折射率。
10.根据权利要求1、2、3和8中任一项的可光聚合体系,其进一步包括:
适合在暴露于UV光时引发有机-无机化合物的可聚合亚单元和/或载体基质化合物的聚合反应的UV光引发剂或适合在暴露于可见光时引发有机-无机化合物的可聚合亚单元和/或载体基质化合物的聚合反应的可见光引发剂。
11.根据权利要求1、2、3和8中任一项的可光聚合体系,其中载体基质化合物是适合在暴露于UV光和/或暴露于热和/或暴露于等离子体中时聚合和/或交联的可光固化的聚合物。
12.根据权利要求1、2、3和8中任一项的可光聚合体系,
其中载体基质化合物包含具有以下结构的聚合物,
且其中x、y和z是整数。
13.形成全息图的方法,包括:
通过在基体上涂布包含包括金属和具有有机可光聚合亚单元的有机单元的有机-无机化合物、作为包含N-乙烯基吡咯烷酮或其衍生物与丙烯酸或其衍生物的共聚物的聚合物的载体基质化合物、适合引发可光聚合亚单元聚合的光引发剂体系的可光聚合体系生成薄膜,其中有机-无机化合物的分子以分子水平分布,并且
用物体光束和参考光束照射所述薄膜,
其中所述物体光束从物体指向所述样品,并且所述物体光束和所述参考光束在样品的位置上是时间和空间重叠的。
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