[发明专利]芯片封装与散热用热界面材料及其制法无效

专利信息
申请号: 201010176988.9 申请日: 2010-05-20
公开(公告)号: CN101864280A 公开(公告)日: 2010-10-20
发明(设计)人: 吴东岷;李加东 申请(专利权)人: 中国科学院苏州纳米技术与纳米仿生研究所
主分类号: C09K5/08 分类号: C09K5/08;H01L23/373
代理公司: 南京苏科专利代理有限责任公司 32102 代理人: 陈忠辉
地址: 215125 江苏*** 国省代码: 江苏;32
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摘要:
搜索关键词: 芯片 封装 散热 界面 材料 及其 制法
【权利要求书】:

1.芯片封装与散热用热界面材料,包括基底上的碳纳米管阵列,其特征在于:所述热界面材料包含填充于碳纳米管阵列缝隙内的液态金属。

2.根据权利要求1所述的芯片封装与散热用热界面材料,其特征在于:所述液态金属为自由扩散、均匀分布在碳纳米管阵列的缝隙内。

3.根据权利要求1所述的芯片封装与散热用热界面材料,其特征在于:所述热界面材料的厚度介于10μm~1mm。

4.根据权利要求1所述的芯片封装与散热用热界面材料,其特征在于:所述碳纳米管阵列为单壁碳纳米管阵列、双壁碳纳米管阵列及多壁碳纳米管阵列之一,其中任意碳纳米管垂直于基底,且碳纳米管直径介于2nm~100nm。

5.芯片封装与散热用热界面材料的制法,其特征在于包括步骤:

I、在基底材料上制备任意形状、面积的碳纳米管阵列;

II、在所述各碳纳米管表面制作一层浸润金属层;

III、在保护气的环境中滴加液态金属到碳纳米管阵列表面,并在高于液态金属熔点温度的条件下采用抽真空法将液态金属扩散、填满碳纳米管阵列的缝隙。

6.根据权利要求5所述的芯片封装与散热用热界面材料的制法,其特征在于:所述浸润金属层为厚度1nm~2nm的金薄膜或铂薄膜。

7.根据权利要求5所述的芯片封装与散热用热界面材料的制法,其特征在于:所述保护气为惰性气体,可选包括氮气或氩气中的一种。

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