[发明专利]兼具耐蚀性和耐磨性的镁合金表面气相沉积防护涂层及其制备方法有效
申请号: | 201010177252.3 | 申请日: | 2010-05-18 |
公开(公告)号: | CN102251213A | 公开(公告)日: | 2011-11-23 |
发明(设计)人: | 汪爱英;代伟;吴国松;郑贺 | 申请(专利权)人: | 中国科学院宁波材料技术与工程研究所 |
主分类号: | C23C14/06 | 分类号: | C23C14/06;C23C14/35 |
代理公司: | 宁波诚源专利事务所有限公司 33102 | 代理人: | 袁忠卫 |
地址: | 315201 浙江*** | 国省代码: | 浙江;33 |
权利要求书: | 查看更多 | 说明书: | 查看更多 |
摘要: | |||
搜索关键词: | 兼具 耐蚀性 耐磨性 镁合金 表面 沉积 防护 涂层 及其 制备 方法 | ||
1.一种兼具耐蚀性和耐磨性的镁合金表面气相沉积防护涂层,其特征在于所述镁合金表面气相沉积防护涂层是一种无需过渡层,能直接沉积在镁合金表面的铝掺杂类金刚石涂层,其中铝在涂层中的掺杂量为10~16at.%。
2.一种兼具耐蚀性和耐磨性的镁合金表面气相沉积防护涂层的制备方法,其特征在于:采用涂层混合沉积系统设备,包括真空室、磁控溅射源、阳极层离子源和兼具公转和自转的工件托架,工件托架安装在真空室内部;
制备过程包括以下步骤:
1)镁合金表面机械抛光预处理,除去表面氧化层和污染物;
2)将预处理好的镁合金固定在工件托架上,采用离子束轰击清洗镁合金表面;
3)制备铝掺杂类金刚石涂层:同时开启离子束源和磁控溅射源,所述磁控溅射源内含纯度至少99.99%的Al靶,向离子束源通入CH4或C2H2气体,气体流量为20~25sccm,离子束源功率为280~320W,电流为0.2~0.3A;向磁控溅射源通入Ar,流量为55~60sccm,磁控功率为1~1.5KW,电流为1~4A,基材负偏压为50~100V,工作气压约为4.5×10-3Torr,沉积时间1~2小时,即在镁合金表面沉积铝掺杂类金刚石涂层。
3.根据权利要求2所述的制备方法,其特征在于所述步骤2采用离子束轰击清洗镁合金表面的具体步骤为:腔体气压2×10-3Torr,开启离子束源,向离子束源通入Ar,气流量为30~50sccm,离子束源功率为260~300W,电流为0.1~0.3A,基材脉冲负偏压为100~300V,轰击时间20~30min。
4.根据权利要求2或3所述的制备方法,其特征在于所述真空室的本底真空小于2×10-5Torr,沉积温度小于100℃。
该专利技术资料仅供研究查看技术是否侵权等信息,商用须获得专利权人授权。该专利全部权利属于中国科学院宁波材料技术与工程研究所,未经中国科学院宁波材料技术与工程研究所许可,擅自商用是侵权行为。如果您想购买此专利、获得商业授权和技术合作,请联系【客服】
本文链接:http://www.vipzhuanli.com/pat/books/201010177252.3/1.html,转载请声明来源钻瓜专利网。
- 同类专利
- 专利分类