[发明专利]等离子体加工设备

权利要求书

1.一种等离子体处理设备，包括腔室(0)以及支承于所述反应腔室(0)上方的调整支架(23)、上电极、下电极和包括起吊部件的电极开启机构，其特征在于，所述起吊部件的外侧部安装于所述等离子体处理设备的电极壳体(22)的内壁，且在所述电极壳体(22)的带动下随之在竖直方向上移动，所述起吊部件的内侧部可选择地与所述等离子体处理设备的调整支架(23)在竖直方向上卡接或者脱离。

2.如权利要求1所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述起吊部件为与所述调整支架(23)同轴设置的起吊环(21)，且所述起吊环(21)的外侧部可转动地卡入所述电极壳体(22)内侧的卡槽之中，所述起吊环(21)的内侧部具有向内凸出的第一弧形卡块(211)，所述调整支架(23)的外侧部具有向外凸出的第二弧形卡块(231)；所述第二弧形卡块(231)的外径大于所述第一弧形卡块(211)的内径，并小于所述起吊环(21)的内径；相邻的两所述第一弧形卡块(211)的周向距离大于或者等于所述第二弧形卡块(231)的周向长度。

3.如权利要求2所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述第一弧形卡块(211)的周向长度大于所述第二弧形卡块(231)的周向长度。

4.如权利要求3所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述第一弧形卡块(211)和所述第二弧形卡块(231)的数目均为三个，且分别沿所述起吊环(21)和所述调整支架(23)的周向均匀设置。

5.如权利要求2至4任一项所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括安装于所述电极壳体(22)上的固定部件(24)，所述电极壳体(22)的内壁具有向内凸出的支撑块(221)，所述支撑块(221)与所述固定部件(24)之间具有轴向距离，所述起吊环(21)卡接于所述支撑块(221)和所述固定部件(24)形成的卡槽中。

6.如权利要求5所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述固定部件(24)朝向所述起吊环(21)的表面开设有凹槽，所述起吊环(21)朝向所述环形固定部件的表面开设有凸块，所述凸块可旋转地安装于所述凹槽中。

7.根据权利要求5所述的等离子体处理设备，其特征在于，所述固定部件为均匀安装于所述电极壳体(22)周向的多个弧形块。

8.如权利要求7所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括安装于所述起吊环(21)上的旋转手柄(27)。

9.如权利要求5所述的等离子体处理设备，其特征在于，还包括可选择地固定所述固定部件(24)和所述起吊环(21)的定位销(25)，且所述定位销(25)与所述固定部件(24)之间安装有回位弹簧(26)。

10.如权利要求9所述的等离子体处理设备，其特征在于，具体为等离子体刻蚀设备。