[发明专利]图型化电极诱导和微波固化制作纳米结构的装置和方法无效

专利信息
申请号: 201010179565.2 申请日: 2010-05-24
公开(公告)号: CN101837951A 公开(公告)日: 2010-09-22
发明(设计)人: 兰红波;丁玉成 申请(专利权)人: 山东大学
主分类号: B82B3/00 分类号: B82B3/00
代理公司: 济南圣达专利商标事务所有限公司 37221 代理人: 张勇
地址: 250061 山东*** 国省代码: 山东;37
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摘要:
搜索关键词: 图型化 电极 诱导 微波 固化 制作 纳米 结构 装置 方法
【权利要求书】:

1.一种图型化电极诱导和微波固化制作纳米结构的装置,包括:成形系统;成形材料;基底;纳米结构诱导系统;微波固化系统,其特征是,所述成形系统由背板、支撑、图型化电极组成;成形材料是低粘度和高介电常数的液态热固性环氧树脂材料;基底是P型硅片;纳米结构诱导系统以图型化电极为直流电场的阳极,基底为直流电场的阴极,图型化电极位于基底的上方,其阳极与图型化电极相连,阴极与基底相连。

2.如权利要求1所述的图型化电极诱导和微波固化制作纳米结构的装置,其特征是,所述直流电场的电压为20V-60V。

3.如权利要求1所述的图型化电极诱导和微波固化制作纳米结构的装置,其特征是,所述微波固化系统的工作频率2.45GHz,输出功率100W-1000W,功率输出方式为连续式或脉冲式,固化时间20-100s,固化温度60-130℃。

4.一种采用权利要求1所述的图型化电极诱导和微波固化制作纳米结构的制作方法,其特征是,包括如下步骤:

1)制作成形系统;

2)基底预处理

以P型硅片为基底,采用Silane对硅片基底进行分子自组装表面处理,使其表面具有疏水特性,降低表面亲水吸附性能;

3)涂铺成形材料

采用旋转涂铺工艺将粘度低于0.8Pa.s/25℃和介电常数高于5液态热固性环氧树脂材料均匀涂铺基底上,涂铺厚度100nm-300nm;

4)成形系统定位

成形系统与基底对准后下压,使成形系统的支撑与基底完全接触,并且保证模具与基底的平行;

5)诱导生成纳米结构

以图型化电极为阳极,基底为阴极,施加20V-60V直流电压,构成纳米结构诱导系统,诱导系统加上电压后,在图型化电极和基底间建立一个电场,成形材料在电场作用下产生静电作用力,静电力克服表面张力、分子内聚力、大气压力和成形材料薄膜自身重力,部分成形材料被向上吸引,形成纳米柱,在电场力的作用下纳米柱不断生长,直到与图型化电极接触,当静电力与表面张力、分子内聚力、大气压力和成形材料薄膜自身重力静电力达到平衡状态,在成形材料上复制出图型化电极纳米特征结构,实现电极特征图形到成形材料特征结构的转移;

6)纳米结构微波固化

微波固化系统的工作频率2.45GHz,输出功率100W-1000W,功率输出方式为连续式或者脉冲式;固化时间20-100s,固化温度60-130℃,经微波固化系统充分固化后生成所需的纳米结构;

7)脱模

关闭纳米结构诱导系统和微波固化系统,成形系统与制备的纳米结构以及基底相分离。

5.如权利要求4所述的图型化电极诱导和微波固化制作纳米结构装置的制作方法,其特征是,所述步骤1)为以导电性电子束抗蚀剂或氧化铟锡ITO为基体材料,采用电子束直写和刻蚀工艺制作图型化电极,图型化电极制作完成后,在工作外表面涂覆一层脱模剂,通过背板将支撑和图型化电极组装在一起,图型化电极与基底间隙的大小通过更换不同高度的支撑来调整,其间隙介于100nm-600nm之间。

6.如权利要求4所述图型化电极诱导和微波固化制作纳米结构装置的制作方法,其特征是,所述步骤4)中,模具与基底平行,模具与基底的间隙均匀一致。

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