[发明专利]一种用于光稳定剂的含多受阻哌啶基的受阻胺化合物及其制备方法

说明书

技术领域

本发明涉及一种受阻胺化合物及其制备方法，尤其涉及一种用于光稳定剂的含多受阻哌啶基的受阻胺化合物及其制备方法。

背景技术

光稳定剂是抑制或减缓由于光氧化作用而使高分子材料发生降解的助剂。因此，光稳定剂的加入可有效提高高分子材料的耐光、氧老化性能，延长户外使用寿命。

受阻胺类光稳定剂(HALS)是性能优良的高效光稳定剂。随着高分子材料的飞速发展，尤其对户外制品适用范围越来越大，涉及到几乎所有高分子材料应用领域，特别适用于聚烯烃、聚苯乙烯、聚氨酯等高分子材料，其效果为传统稳定剂的数倍，且与紫外光吸收剂和抗氧化剂有良好的协同效果，并逐渐代替传统型光稳定剂成为消费的主流，目前已占世界光稳定剂消耗量的一半以上。

传统的HALS一般分子量、功能基密度较低，在一些纤维等比表面积较大的制品中，由于其分子量较低而造成耐迁移、耐挥发和耐抽提等方面的相对不足。

因此，需要一类高分子量的且功能基密度增大的用于光稳定剂的受阻胺化合物以及简单、低成本地制备这种光稳定剂的方法。

发明内容

本发明的一个目的是提供一种用于光稳定剂的含多受阻哌啶基的受阻胺化合物。

本发明的另一个目的是提供用于光稳定剂的含多受阻哌啶基的受阻胺化合物的制备方法。

本发明的受阻胺化合物由通式(I)表示：

其中：R₁，R₂为H或C₁-C₄烷基；

R₄为H、C₁-C₈烷基或苄基；

R₅为H、O自由基(O·)、-OH、-Cl、-CH₂CN、C₁-C₈烷基、C₁-C₈烷氧基、被羟基取代的C₁-C₈烷氧基、C₅-C₁₂环烷氧基、C₃-C₆链烯基、被苯基取代的C₁-C₃烷基。

在本发明更具体的实施方案中，R₁、R₂为H、CH₃、CH₃CH₂；R₄为H、CH₃或苄基；R₅为H、O自由基、-OH、-Cl、CH₃、辛氧基、丙烯基、被苯基取代的甲基。

本发明提供的用于光稳定剂的含多受阻哌啶基的受阻胺化合物的制备方法包括步骤：

(a)以由式(II)表示的丙二酸二酯与由式(III)表示的α，β-不饱和羧酸酯为起始原料，在加成反应催化剂存在下，于溶剂中经加成反应得到由式(IV)表示的加成产物，

其中式(II)为：

R₃为C₁-C₄烷基；

式(III)为：

其中R₁，R₂为H或C₁-C₄烷基；R₃为C₁-C₄烷基；

式(IV)为

其中R₁，R₂为H或C₁-C₄烷基；R₃为C₁-C₄烷基；

以及

(b)将所述加成产物与由式(V)表示的取代的4-羟基哌啶在催化剂存在下，在进一步加入溶剂的情况下，进行酯交换反应得到式(I)所述的受阻胺化合物，

式(V)为

其中R₄为H、C₁-C₈烷基或苄基；